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检索条件"主题词=环形栅"
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基于电场分布特性的环形栅器件SPICE模型研究
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《微电子学与计算机》2012年 第12期29卷 140-144页
作者:张波 肖立伊 付方发哈尔滨工业大学微电子中心黑龙江哈尔滨150001 
提出了一种新颖的、更加通用的环形栅器件版图等效宽度提取方法,用于解决目前商用SPICE模型中版图宽度提取方法不适用于环形栅器件这一问题.该方法基于环形栅中沟道电场分布特性,可用于提取多种形状环形栅版图宽度.提出了SPICE模型中模...
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晶体管形状对单粒子瞬态脉冲特性的影响研究
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《微电子学与计算机》2014年 第10期31卷 76-80页
作者:赵馨远 张晓晨 王亮 岳素格北京微电子技术研究所抗辐射加固工程中心北京100076 
通过三维器件模拟仿真,研究了基于CMOS 0.18μm工艺下标准条形环形栅结构MOS晶体管的单粒子瞬态响应.研究结果表明,单粒子轰击条形器件与环形栅器件产生的单粒子瞬态脉冲特性具有非常大的区别.分析了形状对单粒子瞬态的影响在P...
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深亚微米抗辐射加固设计的SPICE仿真验证方法
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《微电子学与计算机》2010年 第6期27卷 80-84页
作者:王丹 岳素格 孙永姝北京微电子技术研究所北京100076 
由于在抗辐射加固设计(RHBD)中采用了环形栅的版图结构,由此引发了直SPICE仿真验证方法对RHBD不适用的问题.通过分析深亚微米工艺技术下环形栅结构的特性,建立了环形栅的有效宽长比算法,同时构建了环形栅的SPICE仿真模型,并针对抗...
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基于商用工艺的抗辐射标准单元库设计
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《微电子学与计算机》2013年 第6期30卷 152-155页
作者:朱海博 桑红石 李茜 李娅华中科技大学图像识别与人工智能研究所湖北武汉430074 华中师范大学生命科学学院湖北武汉430079 
为了实现与商用CMOS工艺兼容和最好的抗辐射效果,采用环形栅结构消除NMOS管中由总剂量效应引起的漏电流,采用保护环减轻单粒子闩锁效应和消除电势不同的有源区间场区漏电流,采用双互锁存储单元结构提高时序单元的抗单粒子翻转能力.利用...
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