摘要：此文就３３０ｋＶ秦南庄线悬式绝绝于铁帽炸裂事故，说明绝缘于需要有耐腐蚀的措施，绝缘子串的设计强度计算可采用ＩＥＣ的规定。

摘要：简要阐述由铜、钢两种不同金属导体组成的接地网的电化腐蚀 ,提出在设计与施工时为防止电化腐蚀应注意的问题及其相应的技术措施。

摘要：为确保轨道机车的电气/电子设备的可靠性和电磁兼容性,对电气搭接的基本理论及搭接阻抗进行了详细分析,给出影响搭接的技术因素和实施技术要求,为轨道机车的电子/电气产品搭接设计提供了较为详细、可行的方法和思路。

摘要：介绍智能杂散电流测试仪的基本原理、硬件组成及相关应用软件的设计思想。

摘要：在海洋腐蚀模拟试验机中测定了A3钢分别挂片和电连接挂片处于大气区、飞溅区、潮差区和全浸区的腐蚀速度以及在介质不同运动状况（海浪）下试片的电偶电位、电偶电流、自腐蚀电位。试验结果与用宏腐蚀电池理论对电连接挂片和分别挂片在海洋环境中不同的腐蚀规律的阐释相吻合，为海洋环境中碳素结构钢的腐蚀与防护提供参考。

摘要：化学机械抛光 (CMP)技术是同时利用化学和机械作用来获得固体表面亚微米尺度上平整性非常有效的方法 ,从 90年代初期起已成为制备高质量镜头和镜面及集成电路制造过程中硅片表面预处理工艺中最常用的技术之一 .钨的化学机械抛光是用钨坯获得硅片球面平整度的重要工艺 .其过程实际上是先将钨沉积到硅上已有的薄粘附层 -氮化钛上 ,然后进行化学机械抛光 .当抛光阶段接近终了时 ,氮化钛和钨表面将同时暴露在化学抛光液中形成电偶对 ,并在界面上发生腐蚀行为 ,从而影响硅片的球面平整度 ,降低半导体器件的性能与可靠性 .本文通过采用电化学直流极化技术 ,分别获得钨与氮化钛在 0 .0 1mol/LKNO3溶液中或含有三种典型的研磨剂 (H2 O2 ,KIO3,Fe(NO3) 3)溶液中的极化曲线 ,同时设计了一种特殊的电解槽以测量钨和氮化钛之间相互作用的电流 ,初步研究了 patterned硅片上钨和氮化钛界面形成电偶对时的腐蚀行为 .根据所测的钨和氮化钛电位可知 ,当钨和氮化钛表面同时暴露在抛光液中时将形成电偶对 ,氮化钛成为阴极 ,钨为阳极 ,并于界面发生电化学反应 ,表面的不均匀腐蚀将造成硅片平整度的降低 .结果表明 ,当溶液中含有H2 O2 时钨和氮化钛界面的腐蚀速度最大 ,而当溶液中含有Fe(NO3) 3时的钨和氮化钛界面则几乎不发?

摘要：在很多金属材料的结构件中,由于设计上的原因,出现电化学腐蚀、缝隙腐蚀、应力腐蚀、汽蚀、汽液流冲击腐蚀以及热疲劳和高温氧化等腐蚀破坏形式,导致金属结构件的失效。本文以一些常见结构件,就设计中的问题举例说明防止金属结构件腐蚀失效的方法。1.不同电位的金属相连接时,可衬以绝缘垫并密时(圈1),或加镀锌垫圈减轻腐蚀(图2),也可采用刚性牺牲垫圈,不仅使阳极金属得以保护。

摘要：阐述了直流杂散电流干扰对管道腐蚀的基本原理 ,针对直流杂散电流的特点及工程测试要求 ,设计了智能杂散电流测试仪并用于地下管道的工程测试中。实际应用表明 ,该仪表具有良好的性能。

摘要：在混凝土中 ,最能影响其耐久性的因素莫过于钢筋的腐蚀 ,由于钢筋的腐蚀而引起的混凝土耐久性的降低在混凝土中占有相当的比重。该文从钢筋腐蚀的原因出发 ,根据电化腐蚀理论 ,讨论了氯盐及碳化对钢筋产生腐蚀的机理 ,为有效保护钢筋提供了更为清晰的理论依据。