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近红外Mg2Si/Si异质结光电二极管的结构设计与仿真
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《材料导报》2019年 第20期33卷 3358-3362页
作者:陈豪 肖清泉 谢泉 王坤 史娇娜贵州大学大数据与信息工程学院 
本工作设计了近红外Mg2Si/Si异质结光电二极管的器件结构,并采用Silvaco-TCAD对器件主要性能参数(包括光谱响应、暗电流等)进行模拟仿真,优化了器件的结构参数和工艺参数。仿真结果表明:所设计的pin型光电二极管在波长为0.6~1.5μm时比p...
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CCD栅复合介质厚度对界面态的影响
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《半导体光电》2008年 第6期29卷 899-902页
作者:张故万 汪凌 吴可 伍明娟重庆光电技术研究所重庆400060 
采用正交试验方法进行了用于CCD栅复合介质的SiO2和Si3N4厚度的配比实验,研究了退火温度和退火气氛对复合介质界面态的影响,获得了最佳的复合介质SiO2与Si3N4的厚度配比,使得Si-SiO2界面态密度满足设计制作要求。
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GaAs与Si之间过渡层的设计及其分析
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《功能材料》2004年 第Z1期35卷 3228-3230,3234页
作者:谭红琳 王雪雯昆明理工大学材料系云南昆明650093 云南广播电视学校云南昆明650041 
从理论上计算出GaAs/Si异质结在Si的(211)面上界面态密度最小,故GaAs在Si(211)面上生长晶格失配度较小.同时,为了缓解晶格失配,我们采用生长一层GaAs多晶层或Te过渡层得到较好的结果.
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无定形硅薄膜晶体管有源矩阵寻址液晶显示器
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《液晶与显示》1990年 第4期10卷 56-61页
作者:李辉 
晶体管特性取决于材料纯度和界面性质。讨论了顶部钝化的氮化物对场效应迁移率(μ_(FE))和阈值电压的影响。获得场效应迁移率为1.0cm^2V^(-1)S^(-1)。由栅和源之间脉冲电压作用引起的液晶显示器(LCD)工作期间阈值电压的偏移,可以通过累...
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