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检索条件"主题词=研磨抛光"
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磨粒分布对轨迹非均匀性影响的理论分析
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《超硬材料工程》2017年 第4期29卷 27-31页
作者:刘冲 方从富 赵再兴华侨大学机电及自动化学院福建厦门361021 
轨迹分析方法是衡量研磨抛光过程中材料去除非均匀性的一种重要研究手段,通过对研磨抛光过程进行磨粒运动轨迹分析,可以为其工艺参数的优化选取提供重要参考依据。文章采用轨迹分析方法,基于轨迹分布非均匀性的量化指标,对研磨抛光工具...
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微晶玻璃大理石
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《企业技术开发》1994年 第2期12卷 33-33页
本制品为控制结晶人工合成微晶玻璃,经研磨抛光加工而制成,其结构致密均匀、抗冲击、耐磨和耐腐蚀等性能优良,外观平滑光亮,纹理清晰,颜色美观,并且可以根据需要设计制造出众多类型的花色品种,是建筑物理想的高级的饰面材料。
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具有切割和研磨功能的石材切具
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《石材》2006年 第1期 39-39页
作者:周忠华 
现有石材切具刀头由单一粒级的磨料构成,使用粗料时,切割速度快,切割效率高,但切割面起伏大,变得粗糙,切割后研磨抛光耗费时间长,使用细磨料,切割面较平整,但切割速度慢,切割效率低。因此现有石材切具不能高效率地切割出平整...
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