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检索条件"主题词=离子体增强化学气相沉积"
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PECVD变结构腔室压力分布规律研究
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《真空科学与技术学报》2015年 第9期35卷 1149-1156页
作者：黄尊地 杨铁牛 常宁 周玉林五邑大学轨道交通学院江门529020 五邑大学机电工程学院江门529020 
在真空半导体产业发展过程中,决定产品质量的关键因素是生产工艺过程的参数控制,等离子体增强化学气相沉积(PECVD)中比较重要的一个参数为腔室内压力值。通过变结构腔室压力测量试验验证,得到正确可行的针对变结构腔室三维模型的网格剖...
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