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纳米CMOS集成电路设计技术和发展趋势
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《微纳电子技术》2007年 第12期44卷 1031-1035页
作者:戴宇杰 吕英杰 张小兴南开大学天津300071 
论述了日美等国纳米CMOS集成电路半导体制造工艺的现状和发展趋势,分析说明国外半导体制造技术的战略和发展状况;结合90 nm CMOS工艺设计的超大规模SOC芯片的实践,对纳米CMOS集成电路设计技术进行分析;阐述SOC设计面临的技术难题,并对...
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基于0.15微米SOI嵌入式DRAM技术的动态钳制电位DTMOS器件源极与漏极的优化设计(英文)
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《南京师范大学学报(工程技术版)》2003年 第4期3卷 63-65页
作者:Burke F Rambhatla A Zahurak J Parke S A美国爱达荷州BOISE州立大学电气与计算机系 美国Micron公司 
描述了用以进行n 沟道动态电位DTMOS半导体器件源极 /漏极载流子注入优化设计的实验结果 ,该器件制造采用了低成本 0 .15微米SOI和SOC(system on chip ,系统集成芯片 )技术 ,同时也包含了高密度嵌入式DRAM技术 .实验结果表明 ,本器件可...
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SOI嵌入式DRAM技术动态钳制电位DTMOS器件性能的优化设计(英文)
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《南京师范大学学报(工程技术版)》2003年 第4期3卷 59-62页
作者:Kim C S Burke F Rambhatla A 赵阳 Zahurak J Parke S A美国爱达荷州BOISE州立大学电气与计算机系爱达荷州83725 美国Micron公司爱达荷州83707 
描述了n 沟道动态电位DTMOS半导体器件的直流和高频特性 ,该器件制造采用了低功耗CMOSSOC工艺 ,同时也包含了高密度嵌入式DRAM技术 .在本工作中的DTMOS器件在较早时候就发现性能优于本体接地 (GB)和本体浮地 (FB)的MOSFET器件 .本器件...
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科技领风骚 市场展雄风 推动SOC发展的混合信号设计技术
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《世界产品与技术》2002年 第4期 15-17页
作者:于宗光信息产业部电子第58所 
混合信号系统集成芯片(System on a chip,SOC)系指在单一芯片集成信号采集、转换、存储、处理和I/O等功能,或者说将数字电路、模拟电路、信号采集和转换电路、存储器、CPU、MPU、MCU、DSP等集成在单一芯片上。据统计,2000年全球SOC的...
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评价功率MOSFETs热稳定性的客观标准
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《电力电子》2006年 第3期4卷 47-49页
作者:Scott Pearson Gary Dolny 吕长志 亢宝位Fairchild Semiconductor Corporation Alain Laprade 北京工业大学 
为了低损耗开关模式电源(SMPS)结构的最佳化,硅工艺技术的进步已经使MOSFET几代器件持续地具有较高的跨导,并且使得前几代器件被逐渐淘汰。然而当这些高跨导的器件应用于线性模式时,具有热集中的倾向。由于已发表的分析方法需要硅器件...
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长沙欲建一流IC设计中心
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集成电路应用》2002年 第9期19卷 33-33页
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