摘要：为了探讨红外器件钝化膜工艺专用磁控溅射系统的设计,通过分析红外器件钝化膜工艺特性,采用多腔群集式结构、多梯度真空等设计优化了专用磁控溅射系统,实现了8英寸范围内高均匀性薄膜沉积和基片可旋转上置可靠传输,其性能稳定可靠。

摘要：为研究工艺参数对碲镉汞红外器件单层钝化膜工艺影响规律,采用红外器件钝化膜专用磁控溅射系统设备作为实验载体,通过仿真优化指导设计磁控溅射阴极靶,加快实现磁控溅射靶的制备;并采用仿真与实验相结合的方法研究靶基距、靶偏置角度等工艺参数对镀膜均匀性的影响规律,获得较优的一组工艺参数值,为钝化膜工艺形成稳定、均匀性较好的膜层提供理论指导,为进一步研究双层钝化膜层奠定基础。

摘要：本文讨论了HQC—2型红外器件测试台高输入阻抗、超低噪声交流阻抗变换器的设计技术和电磁屏蔽技术。

摘要：休斯公司圣巴巴拉研究中心和休斯技术中心是从七十年代初开始设计和制造第二代读出电子部件的。本文讨论推动这些电路发展的一些因素,如发展过程、存在的问题以及系统设计等。讨论将从读出部件的单片实施开始一直到比较新的具有较高集成度的混成方法为止。涉及的范围将包括从NMOS或PMOS向CMOS的转变、设计规则的技术的发展、产量、成本以及性能。所有这些都将表明这些发展是如何影响读出部件和第二代红外敏感器的。我们还将对ROIC枝术的今后发展作一推测。

摘要：3.3.晶胞Aladdin晶胞是一种三晶体管设计,而不是以前所用的比较传统的四晶体管方案。这样做的目的是出于提高产额和读出速度方面的考虑。附加的一个特点是整体复位,这一点在以前的设计中是不容易做到的。该单元部件为全PMOS,因为PMOS的噪声已被证明比NMOS的低。图5是一个典型的晶胞及其相关列结构的示意图。

摘要：3.器件的制备和测量3.1.象元设计变量为了满足特定光学系统的要求,必须能够制备多种象元尺寸和间距的列阵。到目前为止,我们已制备了两种类型的低温操作的列阵:一种为象元间距3.5mil的512×512列阵。

摘要：本文讨论利用廉价的中波红外(MWIR)线列焦平面组件(FPA)首次成功进行的热成象的实验演示,该焦平面组件包含与焦平面上多路传输器(MUX)相互连的硒化铅(PbSe)长线列列阵。这种独特的缸外敏感器的设计由一个坚固的杜瓦瓶外壳构成,其中安装有一个可靠的固态热电致冷器(TEC),该热电致冷器与PbSe制备工艺和互补型金属-氧化物-半导体(CMOS)多路传输器这两项已被证实的技术相匹配。目前,把这些元部件组合起来,为那些系统性能需要较高分辨率和NE△T能力优于0.2℃的扫描型热成象应用,提供了一种采用容易获得的、廉价-高效的、第二代PbSe焦平面组件的系统设计。

摘要：本文介绍了镀金双孔异型远红外石英玻璃加热器的应用概况,以及它的结构、特点、原理、技术性能和设计、使用方法。

摘要：从事红外技术研究的科研人员和红外应用的工作者及业余爱好者在设计制作红外电路时,都要遇到红外器件的选择和测试问题,尤其是在业余条件下应该怎么办?本文根据有关资料,介绍如何用数字万用表对红外发射与接收二极管进行检测。一种是逻辑电平档测量鉴别法;一种是电阻档测量鉴别法。