摘要：主要探讨了超纯水除硼工艺中,组合式的二级RO反渗透膜装置+EDI连续电除盐装置+后置SA阴床装置+抛光混床装置的除硼工艺,对硼的实际去除效果及运行数据分析。该组合式工艺可稳定满足B出水指标50PPT以下,满足现行半导体超纯水系统对终端B指标超高要求。通过对该组合式工艺运行效果分析,可为后续的超纯水除硼项目提供设计参考。

摘要：集成电路超纯水制备系统的精处理工艺段提供了微污染控制的保障环境。在痕量污染控制环境下,以铂族金属为代表,构建金属纳米粒子对氢氧合成反应的复相催化体系,可以实现多元微污染物的联合降除,进而满足3nm制程超纯水制备系统溶解气体和痕量氧化剂的控制要求。研究阐述和总结了氢氧合成反应的四种反应机制和催化作用机理,重点讨论了金属表面结构、活性位点、形貌尺寸、合金组分、载体性质、液相反应环境对各反应途径催化活性及选择性的密切影响,形成了洁净水相氢气氧化反应的边界条件,对于金属纳米粒子在超纯水领域的应用研究具有导向意义。

摘要：在半导体器件设备、电子元件及电子专用材料制造等电子洁净厂房设计时,工艺设备通常需要超纯水(18.2MQ·cm)进行清洗,本文通过超纯水系统方案设计、供水管路系统、纯水管材选择等的介绍,以期为超纯水系统设计提供参考。

摘要：反渗透是一种膜分离的过程,以膜与膜之间的压力差为推动力,是渗透的逆过程,也是目前最为先进的分离技术之一。通过多方走访与市场调研,分析了国内反渗透膜产能不足及技术垄断的现状,针对市场问题提出了相应的技术解决方案,并进一步探讨了反渗透膜技术未来发展的趋势。

摘要：反渗透是一种膜分离的过程,以膜与膜之间的压力差为推动力,是渗透的逆过程,也是目前最为先进的分离技术之一。通过多方走访与市场调研,分析了国内反渗透膜产能不足及技术垄断的现状,针对市场问题提出了相应的技术解决方案,并进一步探讨了反渗透膜技术未来发展的趋势。

摘要：GTec的工厂里正发生着一件值得赞叹的事情——用自来水制成超纯水。凭借着来自Winsen的特殊系统,GTec将其化为了现实,而要使这套系统正常运作,Lapp的复杂电气连接系统必不可少。“干净”和“纯净”有什么区别?洗涤剂广告从未真正解释过这一点。然而当谈到水时,制药行业对“纯净”是有精确标准的。“纯净”指完全没有微生物污染、导电离子和溶解气体。

摘要：对超纯水的水质要求和生产工艺进行阐述,分别介绍了MFEDI生产工艺、水质净化处理以及电化去离子系统在超纯水生产中的应用,分析了生产超纯水的民生价值,旨在推广联合产水工艺在超纯水生产中的应用,提高超纯水的生产质量。

摘要：针对某半导体行业超纯水制备系统水量、水质要求,设计采用“前处理系统→MAKE UP系统→抛光系统”工艺路线,详细介绍了工艺流程、设备配置及材料部分造价情况,可供类似项目参考。

摘要：目前国内制备超纯水多采用“混凝+UF+RO+EDI”等处理工艺,原水一般是地表水或地下水,但是利用市政污水厂的再生水制备超纯水的研究和应用实属罕见。针对该地区再生水水质,建立了一套“臭氧均相氧化+RO+EDI”实验装置,其RO产水电导率18 MΩ·m,RO浓水和EDI极水可全部作为循环水场的补水。实验过程中有发现企业现有设备设施存在的缺陷,实验结果可用于指导将来工业化详细设计。

摘要：着重介绍了“两段反渗透”新工艺装置的运行结果，同时还与过去的纯水制造方法，如离子交换装置和采用脱气塔的反渗透装置加以比较和讨论。结果表明：在某些领域中．两段反渗透新工艺装置（ⅡＰＬＰ，）与过去的纯水装置比较，不但成本低而且具有水质好等特点。