摘要：在N2氛围下,以二甲基丙烯酸乙二醇酯(EGD)和3-巯基丙基三甲氧基硅烷(MPTMS)为单体[n(EGD)∶n(MPTMS)=1.0∶2.4],以1,8-二氮杂环[5,4,0]十一碳-7-烯(DBU)为催化剂,经巯-烯点击反应制备了巯醚-酯基桥连倍半硅氧烷(EG-BSQ)前驱体,再与乙酸和NaOH反应得到了EG预聚物(EG-BPSQ);然后,EG预聚物和SiO_(2)溶胶原位水解缩聚制备了EG-BPSQ/SiO_(2)(简称S-EG)复合溶胶;最后,采用浸渍提拉法制备了S-EG复合涂层。采用FTIR、SEM对S-EG复合涂层进行了表征,考察了V(EG预聚物)∶V(SiO_(2)溶胶)及处理温度对制备的S-EG复合涂层的静态水接触角、透过率、附着力、防雾性能和减反射性能的影响。结果表明,在SiO_(2)溶胶中引入EG-BPSQ,可以增强SiO_(2)纳米颗粒彼此之间、涂层与基底之间的黏结性能,EG-BPSQ同时具有着“黏结”与“造孔”的作用。当V(EG预聚物)∶V(SiO_(2)溶胶)=1∶3、处理温度为150℃时,复合涂层(HT-S-EG-3C)光透过率高达98.5%,比空白基底提高约8%,附着力均达到0级;静态水接触角为15°,较高的亲水性使其具有防雾效果和减反射性能。

摘要：目的随着红外技术的发展,硫系玻璃已作为红外光学元件得到一定使用,然而硫系玻璃在3~5μm波段的透射率不能满足使用要求,并且红外薄膜用于探测器中易遭受强激光的辐照而损伤。针对硫系玻璃(As_(40)Se_(60))基底镀制薄膜易脱落、透射率低,以及抗激光能力差等问题,设计并制备出在3~5μm波段具有良好透射率、在1064 nm处具有抗激光能力的薄膜。方法制备ZnSe、ZnS和YbF_(3)单层膜,测量其光学常数并进行膜系设计。优化设计出的红外多层薄膜结构为S|0.61H0.21L0.32M0.26L0.2M0.32L0.28M-0.17L0.35M0.28L0.13M0.61L|A,其中H代表ZnSe、M代表ZnS、L代表YbF_(3)、S代表硫系玻璃、A代表空气,数字为膜层的光学厚度,设计波长λ_(0)=4000 nm,薄膜的厚度为2055 nm,光谱性能为:在3~5μm波段双面镀膜时的平均透射率为95.67%,峰值透射率为99.11%,(1064±40)nm波段单面镀膜时的平均透射率为7.62%。在制备过程中,从膜基材料的热膨胀系数差异入手进行优化,工艺参数为:烘烤温度70℃,离子能量100 eV,离子束流20 mA,此参数下薄膜样品的残余应力为−30.0 MPa。结果所制备薄膜的附着性能符合要求,在3~5μm波段双面镀膜时平均透射率为95.38%,峰值透射率为99.07%,在(1064±40)nm范围内单面镀膜时的平均透射率为4.46%,在1064 nm处的激光损伤阈值为7.6 J/cm^(2)。结论在硫系玻璃基底制备薄膜时,从膜基材料的热膨胀系数差异入手,合理优化烘烤温度与离子参数,可以降低薄膜的残余应力,提高薄膜的附着性能。

摘要：目的通过表面改性提升空心玻璃微珠(HGM)在喷涂型环氧涂层中的分散性并提升涂层性能。方法应用KH560作为桥联单元,链接NaOH刻蚀后HGM表面的羟基与CTPB的端羧基,制备HGM-CTPB。应用SEM、FTIR、TGA和UV对过程中各表面改性HGM的表面形貌、接枝基团及在环氧涂层中的分散性进行分析,并将HGM-CTPB作为低密度填料加入环氧涂层中,研究其添加量对涂层的附着力、柔韧性、耐冲击性、表面粗糙度以及耐腐蚀性能的影响。结果CTPB可通过KH560成功桥接在NaOH刻蚀过的HGM表面,所制备的HGM-CTPB相较于HGM本身、NaOH刻蚀HGM以及KH560接枝改性的HGM可在环氧涂层中实现更为均匀的分散,同时CTPB基团可与树脂分子反应将HGM牢固锚定。将HGM-CTPB作为填料,其添加量与环氧树脂质量比为0.08和0.16时,所制备的环氧涂层性能较优。面密度较纯环氧涂层分别降低5.6%和11.3%;涂层附着力分别提高0.97、2.14MPa,达到15.57、16.74MPa,依据国标方法,涂层可耐50cm·kg的正、反向冲击,柔韧性达到1 mm;在60℃,浓度为5%(质量分数)的热盐水中浸泡144 h后,低频阻抗可以保持在10^(8)Ω以上,较纯环氧涂层提升2个数量级。结论CTPB的成功接枝可以使HGM在环氧涂层中实现最优的分散性,并与树脂基体实现良好结合;适量添加HGM-CTPB,可显著降低环氧涂层面密度,提升附着力和耐腐蚀性。

摘要：为研究基底温度对NiO_(x)薄膜综合电致变色性能的影响,在基底温度分别为室温、50、100、200和300℃下,采用直流反应磁控溅射法制备了NiO_(x)薄膜,并对薄膜的形貌、循环稳定性、光学调制率、记忆效应、响应时间和附着力等性能进行测试表征和对比分析。研究结果表明,基底温度对NiO_(x)薄膜的电致变色性能影响较为复杂,基底温度为100℃时制备的薄膜综合性能最优,具有电荷容量密度衰减率低、记忆效应好、响应速度快、调制率高和与基底附着力较好等特点。本研究对NiO_(x)基电致变色器件的设计和制备具有一定的参考意义。

摘要：为给灾害蝗虫光电诱导滑移捕集装置中滑板材料的优选与滑板倾角的设定提供技术支持,设计了蝗虫附着力测试系统（精度为1 mN,量程为0-3 N）,并利用该系统进行了蝗虫在不同材料和不同倾角捕集滑板上的附着力测试。结果表明,当分别以镀锌铁板、PVC板和普通玻璃板为滑板时,蝗虫的附着力均随着倾角的增加而减小;对于确定倾角的滑板,蝗虫在镀锌铁板上具有较小的附着力,故镀锌铁板较适宜作光电诱导滑移捕集装置的滑板,相应的最小倾角为35°-40°。

摘要：在多种媒体并行的碎片化时代中，“附着力方法论”——简单的三个总结，有着现实意义。作为广告主、创意公司乃至媒介投放请注意。

摘要：研究了Ti掺杂对磁控溅射类金刚石(DLC)薄膜附着力及硬度的影响,同时在Ti掺杂类金刚石(Ti-DLC)薄膜的基础上,通过引入Ti应力缓和层制备了Ti/Ti-DLC/Ti/Ti-DLC……软硬交替多层薄膜,研究了Ti应力缓和层对进一步提高薄膜附着力特性的作用。采用纳米划痕仪和显微硬度计分析测试了薄膜的附着力和硬度。研究表明,金属Ti的掺杂有利于DLC薄膜附着力特性的改善,但对硬度有一定的影响。Ti应力缓和层的导入进一步改善了Ti-DLC薄膜的附着力特性,使其达到或超过了TiN薄膜的水平,对于附着力的改善Ti应力缓和层存在最佳的厚度值。采用特殊的变周期多层结构设计即在应力集中的膜基界面附近采用较小的调制周期,薄膜顶层附近采用较大的调制周期不但可以保持足够的附着力,还可维持Ti-DLC薄膜原有的硬度。

摘要：以划格法附着力测试方法为基础,通过调整划格方式和间距,切割涂层加条带刮铲,设定评级标准等方式,制定了适用于低密度型硅橡胶基防热涂层界面附着力评价方法和标准。首先梳理现行国内外划格附着力测试方法,对低密度型防热涂层进行划格法附着力测试分析,根据结果和涂层特点制定了适用于该类涂层的条带切割+刮铲评级方法和标准。针对低密度型硅橡胶基防热涂层膜厚大、韧性好的特点,通过增加划格间距,切割+刮铲,最后用条带周边涂层有无扩展型破坏及扩展区裸露面积百分比来评价是否满足设计要求更加准确。改进后的条带切割+刮铲附着力评级方法可准确评价隔热性测试后低密度型硅橡胶基防热涂层界面附着力。

摘要：CVD ZnS是中长波前视红外窗口和整流罩的合适材料,文中从折射率、热应力、透射波段和附着力等方面考虑,由实验设计出HfO2/非晶膜双层结构作为ZnS与金刚石保护膜间的过渡层,采用射频反应磁控溅射技术在ZnS表面制备过渡膜层,并采用划痕法研究了薄膜的显微结构对其与衬底间附着力的影响。结果表明,金刚石能够在HfO2/非晶膜过渡层上形核、生长,得到优质的保护膜,同时过渡层也缓解了金刚石膜与ZnS衬底间由于热膨胀系数的较大差异而引起的膜层脱落问题,单面沉积过渡层的ZnS在2～12μm范围具有增透膜的作用。与AlN/非晶膜组成的过渡层相比,HfO2/非晶膜组成的过渡层具有更小的残余应力。在典型实验条件下,该过渡层与ZnS衬底附着性良好,研究发现薄膜的显微结构对附着力的大小有重要影响,形成细小致密的柱状纤维结构,有利于提高附着力。

摘要：塔机附着后,附着架要承受塔身传递的作用力,这个作用力有时可达数十吨,所以附着作用力的计算对于附着架的强度设计和建筑结构承受能力的校核是十分重要的。自升式塔机的制造厂家一般不向用户提供其产品机型附着力的计算方法。本文试就FO/23B型塔机的附着进行受力分析与计算,并提出附着力的计算公式,供该型塔机或其它型号塔机附着受力计算参考。一、静力分析与计算塔机的附着结构设计计算步骤如下: 1.确定塔机附着的位置尺寸及附着形式。