摘要：为了获得采用EB-PVD技术制备Ti-Al薄板的合理工艺参数,分析了Ti-Al薄板在实际试验条件下的蒸发与沉积过程.采用相关热学理论,结合分析试验的方法并依照EB-PVD工艺特点,对蒸气粒子的传输、饱和蒸气压对蒸发原子的影响以及Al的再蒸发进行了研究.结果表明:EB-PVD工艺制备Ti-Al薄板的最佳靶基距为280mm;饱和蒸气压的差异使得材料截面呈现分层特征;加入Nb片可以减小由于Ti、Al的蒸发速率差异导致的沉积材料与靶材之间的成分偏差,Al在基板上的2次蒸发可忽略不计.工艺参数的合理设计及在熔池中添加Nb金属,能够提高Ti-Al薄板的沉积速率,并降低由于元素饱和蒸气压的差别对成分偏析的影响.

摘要：为制得具有更小电阻即更好导电性能的织物,利用磁控溅射技术,以铜作为靶材,在涤纶纺黏热轧非织造布上沉积铜薄膜制备导电织物,测试其表面电阻值。分别对进气量、溅射功率、工作气压、靶基距、溅射时间进行单因素试验,探究溅射工艺参数对试样导电性能的影响规律;然后在单因素试验基础上对试验进行二次正交旋转组合设计,对显著因素进行参数优化。得出:制备较低表面电阻值的导电织物的最优参数组合为进气量35.00 m L/min、溅射功率83.0 W、工作气压0.400 Pa、靶基距3.900 cm、溅射时间4.10 min,所得导电织物表面电阻值在1.000 0~100.000 0Ω。