摘要：介绍了新型TFT LCD黑矩阵细线化研究.在原有工艺设备的基础上,突破设备局限和工艺瓶颈,通过引入相掩膜技术和背面曝光设备,达到进一步减小黑矩阵线宽的效果.实验测试结果显示：在普通掩膜板设计上应用相位移掩膜板技术,降低透光区边缘衍射和散射现象,使曝光后黑矩阵线宽降低1.0～1.5 μm.在原有工艺基础上添加背面曝光工艺,使黑矩阵材料在显影后进行背面曝光预固化,改善黑矩阵图形形貌,进一步减小黑矩阵线宽达到0.3～0.5 μm.通过新工艺和新设备的引入和应用,黑矩阵线宽整体降低1.5～2.0 pm,达到5.0～5.5 μm,可以满足目前高PPI（单位面积像素个数）产品对透过率和对比度要求.

摘要：提出一种裸眼立体显示技术减少LCD显示器黑矩阵的方法。在显示屏前方设置透镜模组,子像素发光面经透镜扩束使发光面扩充至黑矩阵大小来减少莫尔条纹。设计透镜参数,建立光学模型并由TracePro光学仿真软件进行模拟与分析,验证模型正确性。

摘要：提出了一种有效提高开口率的新型黑矩阵方式的设计思想。与传统黑矩阵相比， 在不增加工序和增大工艺难度的基础上， 提高了开口率。同时， 通过对黑矩阵尺寸的优化设计，得到了较好的视角特性。将这种方式的黑矩阵应用于 ４０９ｃｍ （１６１ 英寸） Ｓ Ｘ Ｇ Ａ（１ ２８０×３ Ｒ Ｇ Ｂ×１ ０２４）全彩色液晶显示屏， 可使开口率提高 ６％ 。

摘要：本文提出了一种新型的LCD黑矩阵激光制造技术,设计了以高功率Q开关半导体泵浦的Nd∶YAG固体激光器为主体的激光系统,采用激光背照射喷水辅助的方法制作了黑矩阵样品,有效解决了图形精度和残留物的问题。激光技术与现有的光刻技术相比具有多方面的优越性,很有可能成为现有光刻工艺的取代者。

摘要：在压力测试时,高分辨率TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)液晶面板会发生"斑点不良"。为了预防该不良的发生,本文分析了"斑点不良"的发生机理:压力测试时,隔垫物PS(Photo Spacer)发生滑动,将阵列基板上透光区域的配向膜-聚酰亚胺PI(Polyimide)划伤,而失去配向液晶能力,在暗态画面下,划痕处会发生漏光,形成斑点状。本文对不同尺寸及分辨率的液晶面板进行了压力测试,比较隔垫物挡墙、黑矩阵BM(Black Martrix)、隔垫物站位等不同因素对"斑点不良"的影响:隔垫物挡墙能有效阻挡隔垫物的滑动距离的23.6%,能有效降低"斑点不良"的漏光发生;当隔垫物滑动的距离未超出黑矩阵的遮挡范围时,不可见"斑点不良"或很轻微;站在金属块(Pillow)上的隔垫物比没有站在Pillow上的隔垫物滑动距离小约10%。最后以49in超高清UHD(Ultra High Definition)液晶面板为例,提出一种改善"斑点不良"的的设计方案:增加PS上下挡墙设计,降低PS滑动距离;增加BM宽度设计,保证PS边缘到BM边缘的距离大于PS滑动距离;降低PS的个数,增加PS的大小设计降低透过率损失。该方案客户验证无"斑点不良"发生且透过率下降1.2%,说明此设计方案能够有效地改善"斑点不良"。

摘要：在航空电子设备中应用的液晶显示器，要求在宽视角范围内具有高亮度，低反射，高对比度，良好的色饱和度与灰度识别。本文提出了几种独特的解决办法以达到这些严格的要求。为了减少在强环境光下显示器的反射，利用等离子体增强ＣＶＤ技术，沉积了光学成像设备公司（ＯＩＳ）专有的多层无机黑矩阵（ｂｌａｃｋｍａｔｒｉｘ，ＢＭ），测得最终显示器的镜面反射率低于０．６％。利用ＯＩＳ的大开口率ＴＦＴ设计专利，通过提高象素开孔率（Ｏｐｅｎｉｎｇ）到大于６５％，以获得高显示亮度与良好的色饱和度。视角的改善是通过利用ＯＩＳ专利的延迟薄膜叠合在显示器背面实现的。实验证实，在水平＋／－６０°与垂直－１５°／＋４０°视角范围内具有优良的灰度梯度线性（ｇｒａｙｓｈａｄｅｌｉｎｅａｒｉｔｙ）与对比度。在这些新技术的基础上终于研制成功６．２５ｉｎ×６．２５ｉｎ，具有５１２×５１２分辨率的全彩色ＬＣＤ。

摘要：色彩控制 针对排版印刷应用商设计的全新影像色彩调控功能,为用户提供可自行设定的色彩环境。可分别对R、G、B三原色的色饱和度及画面的颜色一致性进行调节修正,用以匹配高档打印输出,能达到所见即所得的效果。 超黑矩阵屏幕 一种利用碳喷涂于屏幕荧光磷点之间,以改善对比度的方法。这种屏幕比一般屏幕暗得多,屏幕影像抗外界光线干扰能力大大增强,图象更为亮丽。