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0.35μm SiGe bicmos 3.1~10.6GHz超宽带低噪声放大器
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《微电子学》2008年 第5期38卷 642-646页
作者:王贵 华明清 唐万春南京理工大学电子工程与光电技术学院南京210094 东南大学射频与光电集成电路研究所南京210096 
基于AMS 0.35μm SiGe bicmos工艺,设计了一种应用于3.1~10.6GHz频段的超宽带低噪声放大器;采用多个反馈环路,实现超宽带范围内的阻抗匹配以及低噪声性能;详细分析了匹配电路的特性。在片测试结果表明,在工作频带内,电路增益S21达到14...
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1.5V高速全摆幅bicmos逻辑电路的研究
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《微电子学》2000年 第3期30卷 155-157页
作者:王海永 邵志标西安交通大学电子科学与技术系陕西西安710049 
分析了影响 Bi CMOS全摆幅输出和高速度的因素 ,探索了一种新的抑制 BJT过饱和的反馈网络 ,提出了具有高速全摆幅输出的 Bi CMOS逻辑单元。该单元可以工作于 1 .5V,并且易于实现多输入扩展 ,它特别适于 VLSI设计。模拟结果表明 ,该单元...
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低温超高速bicmos数字电路的延迟特性分析
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《应用科学学报》1996年 第4期14卷 415-421页
作者:吴金 魏同立东南大学复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 
在常规BiCMOS技术基础上,该文充分考虑了低温下MOS电流驱动能力增强、双极器件增益与频率性能退化、PN结正向导通电压增加和结电容减小等因素的影响,并由此建立起统一的低温BiCMOS数字电路延迟时间的非线性解析分析...
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一种C波段单片全集成SiGe bicmos功率放大器
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《微电子学与计算机》2015年 第6期32卷 142-145,150页
作者:乔晓明 张为 付军 王玉东 曹锐 李庄天津大学电子信息工程学院天津300072 清华大学微电子学研究所北京100084 中国电子科技集团公司第三十八研究所安徽合肥230088 
采用0.13μm SiGe bicmos工艺设计了一种应用于C波段相控阵雷达T/R组件的单片全集成射频功率放大器(RFPA).该放大器采用单级单端Cascode结构,工作于AB类,实现了包括偏置电路和匹配电路在内的片上全集成.芯片总面积为1.4mm×0.8mm(包...
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基于0.18μm SiGe bicmos工艺的高线性射频功率放大器
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《微电子学》2010年 第4期40卷 469-472,476页
作者:阮颖 陈磊 田亮 周进 赖宗声华东师范大学微电子电路与系统研究所上海200062 上海电力学院计算机与信息工程学院上海200090 华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心上海200062 
采用0.18μm SiGe bicmos工艺,设计应用于无线局域网(WLAN)802.11b/g 2.4GHz频段的Class AB射频功率放大器。该放大器采用两级放大结构,具有带温度补偿的线性化偏置电路。仿真结果显示:电路的输入匹配S11小于-13 dB,输出匹配S22小-于20 ...
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一种新型2.4 GHz SiGe bicmos低噪声放大器
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《微电子学》2006年 第5期36卷 580-583页
作者:戴广豪 李文杰 王生荣 李竞春 杨谟华电子科技大学微电子与固体电子学院四川成都610054 
基于窄带低噪声放大器理论,设计了一种2.4 GHz,具有低功耗、低噪声和良好匹配性等优点的新型BiFET结构SiGe bicmos低噪声放大器。采用TSMC 0.35μm SiGe bicmos工艺库,利用SpectreRF软件的仿真结果显示,该电路具有2.27 dB低噪声系数,11....
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用于WCDMA发射机系统的SiGe bicmos上变频混频器
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《微电子学》2011年 第4期41卷 484-487页
作者:张伟 刘盛富 张书霖 陈磊 赖宗声华东师范大学微电子电路与系统研究所上海200062 
设计了一种用于WCDMA发射机系统的1.95 GHz上变频混频器。电路采用传统的双平衡吉尔伯特结构,并引入电流注入和多双曲正切技术,实现了较高的转换增益和线性度。基于宏力0.18μm SiGe bicmos工艺,对电路进行仿真。结果显示,该双平衡有源...
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基于SiGe bicmos工艺的90~100 GHz单刀双掷开关
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《微电子学》2019年 第1期49卷 88-92页
作者:施雨 徐余龙 庞东伟 陈涛 桑磊 李庄 曹锐合肥工业大学光电技术研究院合肥230009 中国电子科技集团第三十八研究所合肥230009 
采用0.13μm SiGe bicmos工艺,设计了一种频带为90~100GHz的差分单刀双掷开关。首先对比分析了并联MOS管与串联MOS管,根据隔离度与损耗性能选择了并联结构。其次采用差分螺旋电感进行匹配,将双端口电感网络等效为变压器模型,显著抑制...
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2.4GHz SiGe bicmos功率放大器核心电路设计
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《微电子学》2011年 第4期41卷 532-535页
作者:苏杰 张书霖 陈磊 赖宗声华东师范大学微电子电路与系统研究所上海200062 华东师范大学纳光电集成与先进装备教育部工程研究中心上海200062 
基于宏力半导体有限公司最新的0.18μm SiGe bicmos 1P6M工艺,提出了一种应用于2.4-2.5 GHz频段的功率放大器,采用两级共发射极结构,优化了电路结构和元件参数,并使用片上和片外电感电容进行匹配。仿真结果表明,电路在2.4~2.5 GHz频率...
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一种基于SiGe bicmos的高速采样/保持电路
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《微电子学》2008年 第6期38卷 823-826页
作者:潘星 王永禄 张正平 张俊安重庆邮电大学重庆400065 模拟集成电路国家级重点实验室重庆400060 中国电子科技集团公司第二十四研究所重庆400060 
设计了一种基于bicmos工艺的高速采样/保持电路,该工艺提供了180 nm的CMOS和75 GHzf_T的SiGe HBT。差分交换式射极跟随器和低下垂输出缓冲器的结合,使电路具有更好的性能。在Cadence Spectre环境下进行仿真,当输入信号为968.75 MHz、V_(...
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