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cvd成膜温度对铝薄膜小丘生成的影响: 收藏
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引用; 《中文科技期刊数据库（引文版）工程技术》2021年第8期 262-264页; 作者：方兴付学群高平羽南京中电熊猫液晶显示科技有限公司江苏南京210000; 纯铝薄膜作为金属电极在TFT-LCD中应用较广,但因其在高温制程中易诱发产出小丘,对良率造成较大影响。本文主要通过光学精密显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)和集束离子注加工装置(FIB)观察小丘形貌,利用SL点灯装置分析小丘对产品造成的...; 纯铝薄膜作为金属电极在TFT-LCD中应用较广,但因其在高温制程中易诱发产出小丘,对良率造成较大影响。本文主要通过光学精密显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)和集束离子注加工装置(FIB)观察小丘形貌,利用SL点灯装置分析小丘对产品造成的不良类型,得出与常规铝穿刺绝缘层造成绝缘层断裂或互连线间短路不同,此类小丘,铝与GT绝缘膜相互卷曲包裹而形成凸起。设计不同cvd镀膜温度实验,观察小丘发生状况,当cvd成膜温度由370℃降至340℃时,可得到几乎表面无小丘的产品。; 来源：详细信息评论

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