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应用dna模版自组装CdS纳米线(英文): 收藏
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引用; 《材料科学与工程学报》2007年第6期25卷 875-877页; 作者：施维林马锡英绍兴文理学院生命科学院浙江绍兴312000; 近年来,由于具有双螺旋补偿结构,dna分子作为智能模版被广泛应用于设计棒状或管状类的纳米结构。本文报道了应用dna双螺旋模版将CdS纳米粒子自组装为CdS纳米线。制备的CdS纳米线由几根纳米线紧密缠绕在一起,也呈螺旋形结构,该结构在无...; 近年来,由于具有双螺旋补偿结构,dna分子作为智能模版被广泛应用于设计棒状或管状类的纳米结构。本文报道了应用dna双螺旋模版将CdS纳米粒子自组装为CdS纳米线。制备的CdS纳米线由几根纳米线紧密缠绕在一起,也呈螺旋形结构,该结构在无机材料中是很少见的。该结构形成的主要原因归功于CdS纳米粒子和dna分子间的强烈静电互作用,由于含自由基的CdS纳米粒子带负电荷,而氨基的dna核酸根带正电荷。研究结果表明应用dna模版制备纳米线是一种简便、高效的技术和方法。同时,dna模版法也为从底上制备纳米级的材料和物体提供了广阔的空间。; 来源：详细信息评论

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