摘要：在深亚微米、超深亚微米工艺水平下的超大规模集成电路设计需要高性能的eda(电子设计自动化,ElectricalDesignAutomation)软件的支持。与物理设计相关的布图设计中,布局设计是一个极为重要的环节。该文以FPGA(现场可编程门电路,FieldProgrammableGateArray)为例,分析和介绍了eda中的布局算法,然后利用遗传模拟退火算法对原算法提出了改进,并在文章中介绍了改进后的算法。

摘要：为模拟和优化电子束光刻(Electron Beam Lithography,EBL)工艺过程,提高电子束光刻版图加工质量,依托湖南大学(Hunan University,HNU)开发了一套电子束光刻的“自主可控”国产电子设计自动化(Electronic Design Automation,eda)软件HNU-EBL.该软件实现了以下主要功能:1)基于Monte Carlo方法计算电子束在光刻胶和衬底中的散射过程与运动轨迹;2)基于多高斯加指数函数模型计算拟合出电子束散射的点扩散函数;3)基于GDSII光刻版图文件矩阵化,进行邻近效应、雾效应等校正计算,优化电子束曝光剂量;4)基于卷积计算,计算出给定曝光剂量下的能量沉积密度,并计算出边缘放置误差等光刻加工质量关键指标.基于该软件,通过异或门(Exclusive OR,XOR)集成电路的光刻版图算例,计算在聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate,PMMA)光刻胶和硅衬底中10 kV电子束的光刻工艺过程.通过对比电子束邻近效应校正前后的显影版图,验证了该软件的有效性.在完全相同的计算硬件和算例条件下,与主流同类进口eda软件进行了对比,证实了在同等精度下,本软件具有更高的计算效率.已建立http://***网站,将HNU-EBL软件免费授权给EBL用户使用.

摘要：介绍一种新的名为ｉｓｐ　ＥＸＰＥＲＴ的数字系统设计软件，它是一套完整的、支持所有Ｌａｔｔｉｃｅ公司的ｉｓｐＬＳＩ器件的电子设计自动化（ＥＤＡ）软件．通过简单实例，叙述了用原理图输入法设计数字系统的步骤．

摘要：分析了Protel软件特殊的Client/Server结构特点,研究了Protel软件的两大组成部分—设计资源管理器和插入式服务器;提出了利用Protel的Client/Server结构和Protel的SDK开发基于Protel的第三方eda软件的方法,并通过实例说明这是一种简单有效、方便快捷的eda软件开发新方法。

摘要：在电子电路课程设计中,合理使用eda软件——EWB和Protel99SE,使以前学生望而生畏的电子电路设计课变 得轻松和有吸引力.它节约了资金,缩短了设计的时间周期;给学生提供了极大的创造空间,激发和培养了学生的创 新思维能力;使学生设计的作品质量和难度系数都得到了提高.

摘要：针对各eda软件中共性的SPICE不收敛问题,全面、系统地探讨了解决各种不收敛问题的对策和途径,并通过实例来说明解决不收敛问题的具体过程。

摘要：本文介绍了eda(ElectronicDesignAutomatic)软件的系统仿真、辅助设计和性能分析验证三大功能,以及eda软件应用于设计开发过程的特点优势。结合当前通信设备的设计要求和流程特点,示例阐述了使用eda设计工具Multisim以提高电路设计质量的过程和方法。

摘要：PCB设计技术正向高密度、高速化的方向发展。本文介绍了Cadence eda软件解决PCB设计中的高速、高密问题的一些方法。

摘要：本文对Smith V2.00、Multisim9.0和Excel2007等计算机辅助软件进行了介绍,并通过eda软件对中波天线调配网络的改造实例进行了分析、计算、仿真验证和实际调试。

摘要：本文详细介绍了eda软件在电子电路的课堂教学、虚拟实验和电路设计中的应用,总结了eda软件在电子电路教和学过程中应用的优越性.