限定检索结果

文献类型

  • 58篇期刊文献

馆藏范围

  • 58篇电子文献

日期分布

 

学科分类号

  • 54篇工学
  • 4篇经济学
    • 4篇历史学类
  • 2篇教育学
    • 2篇法医学类
  • 2篇管理学
  • 1篇理学
  • 1篇农学
  • 1篇医学

主题

  • 58篇mems器件
  • 7篇mems技术
  • 6篇洁净厂房
  • 6篇薄膜压力传感...
  • 6篇mems传感...
  • 6篇加速度传感器
  • 6篇遥测技术
  • 6篇高温压力传感...
  • 4篇微机电系统
  • 2篇设计竞赛
  • 2篇研究人员
  • 2篇优胜者
  • 2篇低功耗
  • 2篇创新设计
  • 2篇力学性能
  • 2篇晶圆制造
  • 2篇应用
  • 2篇加速度计
  • 2篇nist
  • 2篇adi

机构

  • 6篇东南大学
  • 3篇中北大学
  • 3篇北京航空航天...
  • 2篇大连理工大学
  • 2篇上海交通大学
  • 2篇厦门大学
  • 1篇西华大学
  • 1篇桂林电子科技...
  • 1篇浙江机电职业...
  • 1篇中科院苏州纳...
  • 1篇山西北方机械...
  • 1篇天津大学
  • 1篇上海理工大学
  • 1篇陕西东方航空...
  • 1篇晋西防务装备...
  • 1篇同济大学
  • 1篇浙江省机械工...
  • 1篇武汉理工大学
  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇沈阳理工大学

作者

  • 5篇黄庆安
  • 2篇张鹏
  • 2篇王田苗
  • 2篇李伟华
  • 1篇苏昂
  • 1篇张大成
  • 1篇王淑华
  • 1篇胡春光
  • 1篇郝一龙
  • 1篇徐嘉佳
  • 1篇郭辉
  • 1篇孟桥
  • 1篇郭航
  • 1篇胡小唐
  • 1篇石云波
  • 1篇郑哲
  • 1篇陆蔺辉
  • 1篇魏海龙
  • 1篇张凤田
  • 1篇朱托

语言

  • 58篇中文
检索条件"主题词=MEMS器件"
58 条 记 录,以下是51-60 订阅
北京遥测技术研究所mems工程中心
收藏 引用
《遥测遥控》2023年 第2期44卷 F0003-F0003页
北京遥测技术研究所mems工程中心位于北京市丰台区东高地四营门北路2号院,中心洁净厂房总面积约1700 m^(2),是集设计、制造于一体的mems传感器产业基地及mems技术创新平台。中心根据产品生产需求和先进的工艺设计加工理念,建立了薄膜压...
来源:详细信息评论
NIST揭示硅材料中的疲劳效应
收藏 引用
《今日电子》2008年 第2期 31-31页
作者:Christina Nickolas 
美国国家标准和技术研究所(NIST)的研究人员开发了一种机械应力工艺,该工艺可以使块状硅晶体产生裂纹。在这之前,人们一直认为硅不受这类故障的影响。结果显示,这种工艺将普遍影响被认为具有广泛应用的硅基mems器件的设计。
来源:详细信息评论
党建引领企业打破技术垄断
收藏 引用
《光彩》2023年 第12期 55-55页
作者:贵州汉天下科技(集团)有限公司贵州汉天下科技(集团)有限公司 
在公司党支部的带领下,经过全体员工的不懈努力,公司现已拥有知识产权72项,荣获国家、省、市、县级相关资质20余项,打破了国外巨头的技术垄断,实现了射频滤波器技术的国产化贵州汉天下科技(集团)有限公司成立于2012年9月,是一家集半导...
来源:详细信息评论
北京遥测技术研究所mems工程中心
收藏 引用
《遥测遥控》2024年 第5期45卷 F0003-F0003页
北京遥测技术研究所mems工程中心位于北京市丰台区东高地四营门北路2号院,中心洁净厂房总面积约1700 m^(2),是集设计、制造于一体的mems传感器产业基地及mems技术创新平台。中心根据产品生产需求和先进的工艺设计加工理念,建立了薄膜压...
来源:详细信息评论
北京遥测技术研究所mems工程中心
收藏 引用
《遥测遥控》2021年 第4期42卷 F0003-F0003页
北京遥测技术研究所mems工程中心位于北京市丰台区东高地四营门北路2号院,中心洁净厂房总面积约1700 m2,是集设计、制造于一体的mems传感器产业基地及mems技术创新平台。中心根据产品生产需求和先进的工艺设计加工理念,建立了薄膜压力...
来源:详细信息评论
NIST论证硅疲劳效应
收藏 引用
《微纳电子技术》2008年 第2期45卷 124-124页
作者:王玲(编译) 王淑华(编译) 
机械疲劳效应是一个极其令人感兴趣的现象,因为它一直被人们认为是不存在的。美国国家标准与技术研究所(NIST)的研究人员已经对机械疲劳效应进行了论证,这种效应最终会导致体硅晶体中产生裂缝和断裂现象。这一学术成果对设计新型硅...
来源:详细信息评论
Point35Microstructures将氧化物释放技术添加到汽相mems制造系列
收藏 引用
《电子与封装》2009年 第4期9卷 46-46页
作者:本刊通讯员 
全球微机电系统(mems)产业蚀划和沉积设备供应商Point 35 Microstructures公司,近日在上海宣布推出汽相氧化物释放蚀刻模块,进一步扩展其微机电系统(mems)单晶圆制造memsstar产品系列。这项新增的技术将确保mems器件设计师得到更...
来源:详细信息评论
ADI始终以客户需求为己任
收藏 引用
《今日电子》2005年 第5期 89-89页
美国模拟器件公司(ADI)的mems器件、DSP、数据转换器、音视频接口、微控制器在其长长的产品目录中占据着重要的位置,性能不断提高、种类不断丰富的产品线为用户提供越来越多的选择。ADI的最新成果包括:超小封装、低功耗、双轴±5g...
来源:详细信息评论
聚类工具 回到顶部