摘要：为了减少磁控溅射法沉积mgf2薄膜的F贫乏缺陷,在工作气体Ar2中加入SF6作为反应气体,在石英玻璃衬底上用射频磁控溅射法制备了mgf2薄膜,研究了溅射功率对mgf2薄膜化学成分、微观结构和光学性能的影响。结果表明,随着溅射功率从115 W增加到220 W,F:Mg的原子比不断增加,185 W时达到2.02,最接近理想化学计量比2:1;薄膜的结晶度先提高后降低,最后转变为非晶态;mgf2薄膜的颗粒尺寸先是有所增加,轮廓也变得更加清晰,最后又变得模糊。mgf2薄膜的折射率先减小后增大,在185 W时获得最低值,550 nm波长的折射率1.384非常接近mgf2块体晶体;镀膜玻璃在300~1100 nm范围内的透光率(以下简称薄膜透光率)先增大后减小,185 W时达到94.99%,比玻璃基底的透光率高出1.79%。

摘要：ITO/mgf2复合薄膜既具有较好的表面导电性能又具有较高的透过率,可应用于空间太阳电池玻璃盖板表面。文章主要对ITO/mgf2复合薄膜中表层的超薄ITO薄膜进行了研究。利用TFCalc软件模拟了ITO薄膜厚度对ITO/mgf2复合薄膜光学性能的影响,根据模拟结果采用电子束蒸发法在衬底上依次沉积mgf2薄膜和氧化铟锡(ITO)薄膜,研究了ITO薄膜工艺参数(沉积速率、沉积温度和工作气压)和ITO薄膜厚度对ITO/mgf2复合薄膜光电性能及微观结构的影响。当ITO薄膜沉积速率为0.05nm/s、沉积温度为400℃、工作气压为2.3×10^(-2) Pa、厚度为10nm时,表层ITO薄膜基本连续,其方块电阻(1.94kΩ/)已符合设计需求,ITO/mgf2复合薄膜在可见光区间(400~800nm)的平均透过率达到89.00%。

摘要：采用一种相对简单而又精确的光度法来计算弱吸收基底上弱吸收薄膜的光学常数,为低损耗紫外薄膜的设计与实现提供了理论基础。采用JGS1型熔融石英基底,制备了mgf2与LaF3材料的单层膜,获得了JGS1型熔融石英基底及mgf2与LaF3薄膜的光学常数色散曲线。结果显示:在200 nm左右处,JGS1型熔融石英基底的吸收已经比较明显,消光系数在10-8量级,因此,应考虑基底的弱吸收,以提高薄膜光学常数的计算精度。