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利用位置式数字PID算法提高DFB激光器驱动电源稳定性
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《红外与激光工程》2015年 第6期44卷 1757-1761页
作者:战俊彤 付强 段锦 张肃 高铎瑞 姜会林长春理工大学空间光电技术研究所吉林长春130022 长春理工大学光电工程学院吉林长春130022 
由于分布反馈式(DFB)激光器输出光功率受其激射电流的影响,为了保证其稳定的光功率输出,研制了基于位移式数字PID算法的高稳定性DFB激光器驱动电源。在硬件设计方面,该驱动电源主要由控制器模块、恒流源模块和保护电路模块组成。采用模...
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LD抽运Nd:YAG/KTP腔内倍频连续波1.2W红光激光器
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《光电子.激光》2005年 第7期16卷 767-770页
作者:周佳凝 温午麒 周睿 丁欣 赵士勇 牛燕雄 王鹏 姚建铨天津大学精仪学院激光与光电子研究所 
报道了用Ⅱ类相位匹配KTP(相位匹配角选为θ=59.9°,Φ=0°)对激光二极管(LD)侧向抽运的Nd:YAG腔内倍频的红光激光器。通过分析大功率抽运Nd:YAG棒热透镜效应的影响,优化设计了三镜折叠腔参数。采用镜片镀膜的方法使Nd:YAG工作...
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1339nm单一谱线Nd:YAP脉冲激光器
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《红外与激光工程》2009年 第1期38卷 50-53页
作者:欧阳小军 魏勇 张戈(指导) 邱怡申 黄呈辉 朱海永 黄凌雄中国科学院福建物质结构研究所光电材料化学与物理重点实验室福建福州350002 福建师范大学物理与光电信息科技学院福建福州350007 
介绍了一台a轴偏振的1339nm Nd:YAP脉冲激光器。通过分析Nd:YAP晶体的能级跃迁和光谱特性,采用偏振片抑制平行于晶体c轴偏振的激光振荡,并通过设计输出耦合镜的透过率抑制晶体a轴偏振的1064nm强线的振荡,成功实现a偏振的1339nm单一谱线...
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14 nm工艺下基于CUPF的数字IC低功耗物理设计
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《电子技术应用》2017年 第9期43卷 25-29页
作者:高华 李辉中国科学技术大学信息科学技术学院安徽合肥230026 
随着集成电路生产工艺的迅速发展,功耗作为芯片质量的重要衡量标准引起了国内外学者越来越多的重视和研究。当晶体管的特征尺寸减小到纳米级时,其泄露电流的增加、工作频率的提高和晶体管门数的攀升极大提高了芯片的功耗。同时,传统的基...
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高功率14xx nm锥形增益区脊形波导结构量子阱激光器的研制
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《Journal of Semiconductors》2007年 第1期28卷 108-112页
作者:李璟 马骁宇 王俊中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程中心北京100083 
初步设计14xxnm锥形增益区脊形波导量子阱激光器材料和器件结构,利用MOCVD生长14xxnmIn-GaAsP/InP量子阱激光器外延片,引入腔破坏凹槽(cavity-spoilinggrooves)将有源层刻蚀断以隔离从锥形区反向传输回的高阶模,进一步改善远场光束质量...
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28 nm CMOS工艺下800 MS/s 10 bit DAC的设计
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《半导体技术》2016年 第10期41卷 730-735页
作者:满亮 杜占坤 马骁 刘珂 庞晓敏 熊利伟中国科学院微电子研究所北京100029 
基于28 nm CMOS技术,采用"6+4"分段结构,设计了一款800 MS/s 10 bit三通道的电流舵型高速数模转换器(DAC)应用于视频信号处理。采用1.05 V/1.8 V的双电压域设计来保障DAC的性能,通过锁存器和电平转换的组合电路,实现了一种双...
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全固态561nm单谱线激光器研究
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《激光与红外》2015年 第5期45卷 496-499页
作者:张帆 高兰兰 马威 董小龙长春理工大学吉林长春130022 
采用5 W激光二极管端面抽运Nd∶YAG晶体,通过设计合理的谐振腔膜系,再分别利用双折射滤波器和标准具获得单一谱线基频光,采用长度为10 mm的Ⅰ类临界相位匹配LBO晶体进行倍频,获得稳定的561 nm单谱线输出。理论分析了双折射滤波器和标准...
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14 nm工艺下基于H-Tree和clock mesh混合时钟树的研究与实现
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《电子技术应用》2017年 第11期43卷 34-37,42页
作者:高华 李辉中国科学技术大学信息科学技术学院安徽合肥230026 
在数字集成电路设计中,时钟信号是数据传输的基准,时钟信号作为数字芯片内部转换频率最高和布线距离最长的信号,也是数字芯片功耗的重要组成部分。为了优化数字芯片的功耗、功能和稳定性,在GF14 nm工艺下对时钟树进行优化设计,提出一种H...
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亚0.1 μm栅衬互连体硅MOSFET特性研究
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《清华大学学报(自然科学版)》1999年 第S1期39卷 120-123页
作者:刘卫东 李志坚 刘理天清华大学微电子研究所 
为满足低电压CMOS晶体管高驱动电流和低静态功耗的要求,提出0.5V栅衬互连GBC(gate-bodyconnected)体硅MOSFET工作模式。利用二维器件模拟,对栅长直到70μm的器件结构设计、特性和器件物理研...
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基于40nm CMOS工艺的电平转换器的设计及优化
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《半导体技术》2015年 第2期40卷 93-96,122页
作者:周欢欢 陈岚 尹明会 张卫华中国科学研究院微电子研究所北京100029 
电平转换器可以作为1.1 V核心电压和3.3 V输入输出电压之间的高速接口。优化的电压上升转换器使用2.5 V厚氧化层栅零阈值电压n MOS管保护1.1 V薄氧化层栅n MOS器件,在输入电压低至0.7 V时仍可正常工作;此外,在六种不同工作情况下电路性...
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