摘要：0rion大楼是瓦赫宁根大学研究中心的第二栋中央学术大楼。这是一栋具有极高灵活性和效率性的大楼．用以应对该大学未来不断增长的空间需求。像一般的学术大楼一样．这座大楼内部设计有食堂、演讲厅．指令区和实验室。建筑师对不同空间类型的分布进行了合理的安排：最繁忙的空间——如咖啡厅、饭店、演讲厅——都尽可能地设在一层．而那些需要高度依赖科技设备的空间——如实验室等——尽量设在大楼的顶层，直接位于设备安装区域下面。

摘要：全球领先的半导体制造晶圆工艺、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司，目前在其再次于上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的orion单晶圆清洗系统。该系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制和维护，满足32nm和22nm技术的关键步骤上多项清洗需要。其中包括减少在超浅层注入后的光刻胶去除的材料损失，避免在高介电系数金属栅和与包含包覆层金属连接的铜的电偶腐蚀和材料损失。

摘要：2008年11月4日，半导体制造晶圆工艺、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司再次于上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上宣布推出全新的orion。单晶圆清洗系统。该系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制和维护，满足32nm和22nm技术的关键步骤上多项清洗需要。

摘要：2016年5月19日,NASA、ESA和orion飞船的主承包商——空客防务与航天公司、泰雷兹？阿莱尼亚航天公司欧洲分公司以及洛马公司航天系统分部在空客公司集合,宣布orion飞船的欧洲服务舱（ESM）即将通过关键设计评审。ESM的起飞质量为13000千克,将为orion飞船提供推进、动力支持、

摘要：较快的移动速度和切削速度,改进的刀具和托盘交换时间,加上一套新的高性能控制系统和重新设计的外罩使orion系列加工中心又有了提高。移动速度达25.4m/min和高的加/减速度,使orion产品在同级机床中具有最高生产力的机床之一。 新的4轴和5轴变型机床增加了通用性。

摘要：orion单晶圆清洗系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制和维护，满足32nm和22nm技术的关键步骤上多项清洗需要。其中包括减少在超浅层注入后的光刻胶去除的材料损失，避免在高介电系数金属栅和与包含包覆层金属连接的铜的电偶腐蚀和材料损失。

摘要：法国TMI orion公司是法国一家专设计和提供用户化和标准电子系统的公司，产品在许多工业领域应用广泛，主要用于测量自然环境中各种非正常环境条件下的物理和化学参数，如温度（高达150°），压力，湿度，气流，拉压，速度等。

摘要：全球领先的半导体制造晶圆处理、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司日前宣布一家重要半导体制造商订购了该公司的新orion单晶圆清洗平台。这项订单表明了该客户对FSI发运的、用于后段（BEOL）32nm开发项目的评估机台的认可。该系统特有的闭室设计可解决多个关键步骤清洗问题，其中包括控制铜导线中的材料损失和电偶腐蚀（带有和不带金属包覆层），这确保了IC制造商去实现无缺陷下一代铜导线架构。

摘要：FSI国际公司前不久在上海举办的“FSI知识服务系列研讨会”上，宣布推出全新的orion单晶圆清洗系统。该系统特有的闭室设计可实现对晶圆环境的完全控制和维护，满足32nm和22nm技术的关键步骤上多项清洗需要。其中包括减少在超浅层注入后的光刻胶去除的材料损失，避免在高介电系数金属栅和与包含包覆层金属连接的铜的电偶腐蚀和材料损失。

摘要：全球领先的半导体制造晶圆处理、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司，日前宣布一家重要半导体制造商订购了该公司的新orion单晶圆清洗平台。这项订单表明了该客户对2008年5月FSI发运的、用于后段（BEOL）32nm开发项目的评估机台的认可。该系统特有的闭室设计可解决多个关键步骤清洗问题，其中包括控制铜导线中的材料损失和电偶腐蚀（带有和不带金属包覆层），这确保了IC制造商去实现无缺陷下一代铜导线架构。