摘要：以偏钨酸铵为钨源,聚乙二醇(PEG)为聚合物合成前驱体溶胶,分别在FTO导电玻璃、石英玻璃和石墨衬底制备wo3薄膜,利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(LRS)和场发射扫描电镜(FESEM)等手段对薄膜进行结构表征,研究衬底和热处理温度对wo3薄膜光致发光性能的影响,并探讨二者对wo3薄膜光致发光性能的影响机制。结果表明:随着热处理温度的升高,wo3薄膜光致发光性能显著提高;在相同热处理温度下,石墨衬底wo3薄膜具有最强的光致发光性能。

摘要：采用直流反应磁控溅射制备了具有优异电致变色性能的wo3薄膜。通过对成膜参数的调控,实现了低功率和短溅射时间的制膜制度,获得了较宽的工艺范围。通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、光学轮廓仪、电化学工作站、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜的物相、微观结构、厚度、电致变色性能。研究表明:在溅射功率为50 W,溅射压强为2.0 Pa,反应气体流量为20 sccm时所制得的薄膜性能最为优越。所制备薄膜具有较短的变色响应时间和大幅度的变色调制幅度,其对可见光变色调制幅度达到80%。

摘要：采用溶胶-凝胶法制备wo3电致变色薄膜,并利用正交设计法对实验进行设计,采用循环伏安特性法、分光光度法和扫描电镜(SEM)对薄膜的变色效果和表面形貌进行了研究.据此找出最佳实验条件为W粉用量4 g、H2O2加入量20 mL以及无水乙醇用量10 mL,此时制得的wo3电致变色薄膜的变色响应时间最短为6 s,具有较均一的表面形貌和高的变色效率.

摘要：采用正交设计法优化了脉冲电泳沉积制备wo3薄膜的工艺参数,并通过分析薄膜的微观结构、透射光谱和循环伏安曲线等研究了最佳工艺条件下制备的wo3薄膜的电致变色性能。结果表明,脉冲电泳沉积制备wo3薄膜的最佳工艺参数为平均电流密度0.2×10-3A/cm2,沉积时间6min,占空比75%,脉冲周期10ms。最佳工艺条件下制备的wo3薄膜厚度约为251nm,呈非晶态;在可见光区(550～800nm),光调制幅度(?T)可达76%～80%;表现出良好的电化学活性,离子存储能力达27.8×10-3C/cm2;着色/褪色响应不对称,可逆性稍低(75.1%)。

摘要：采用正交实验设计方法,优化了钨粉过氧化聚钨酸sol-gel法制备wo3薄膜的配方,并且通过测定薄膜的物相结构、光透过率和循环伏安特性等研究了薄膜的电致变色性能。结果表明,制备wo3薄膜的最优配方为:钨粉(纯度为99.5%)6g、浓双氧水20mL、无水乙醇22mL、冰醋酸6mL。该配方所制备的薄膜具有非晶态结构,且薄膜在着色态、褪色态下的透过率之差达到50%以上。

摘要：采用溶胶-凝胶法制备了wo3光致变色薄膜,主要探讨钨酸钠浓度对薄膜结构及性能的影响,运用XRD、SEM、UV-Vis-DRS及全自动色差计对氧化钨薄膜的结构及性能进行表征。实验表明:钨酸钠浓度为0.15 mol/L时,晶粒尺寸约为36 nm,结晶度较高,薄膜致密,颗粒分布均匀,色差值为1.945,光致变色性能最优。