摘要：　设计了一种新工艺———利用硅微结构直接作为模具来制作微小固体染料激光器谐振腔型滤波器。首先通过组合刻蚀工艺制作硅模具 ,再利用硅模具复制得到微谐振腔。组合刻蚀工艺是采用深层反应离子刻蚀 (deep RIE)再结合EPW湿法刻蚀 (一种各向异性刻蚀技术 )。由于EPW湿法刻蚀对〈110〉面刻蚀速率较慢 ,可制作出具有光学镜面的侧壁〈110〉的硅模具 ,利用此模具可复制出正方形固态染料微谐振腔。以激光染料若丹明 6G掺杂的聚甲基丙烯酸甲脂 (PMMA)为工作物质 ,在调QNd∶YAG自倍频激光 5 32nm抽运下 ,得到 6 0 0nm波长的激光输出。这种谐振腔可应用在染料激光器和滤波器中 ,对其原理、设计、制作工艺和性能都作了介绍。

摘要：提出了一种聚苯乙烯(PS)微针阵列的微细加工工艺,即利用紫外线光刻技术在光刻胶上得到与准LIGA(Lithograpie(光刻),Galvanoformung(电铸),Abformung(铸塑))掩膜板图形相似的曝光能量分布图,再利用显影和转写技术获得断面形状与掩膜板图形相似的PS微针阵列结构.为了解决微针载药的加工问题,通过设计4孔凹槽结构实现空心孔的微细加工,获得了高度为400μm的PS微针阵列.该阵列面积约为22.18cm2,微针数约为6 240根.实验结果显示,新方法加工高质量高密度带凹槽结构实心微针的效果非常好.

摘要：提出了一种聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）微针阵列的微细加工工艺，即移动X光光刻在光刻胶上得到与LIGA掩模板图形相似的曝光能量分布图，再利用显影技术获得了其断面形状与LIGA掩模板图形相似的PMMA微针阵列结构．为了解决空心微针阵列的加工问题，通过对准曝光实现空心孔的微细加工．用此纳米加工技术获得了高度为350～700μm、针锋尖锐度为1μm的PMMA的微针阵列．该阵列面积约为1cm^2，微针数约为900根，实验结果表明，利用这种新方法可以非常方便地加工出高质量的实心微针、空心微针和带流体沟道的分又微针等各种微针．该微针阵列可与微泵、微通道等集成为一体，实现无痛化注射或无痛化采血。

摘要：IP核技术是系统芯片 SOC设计中的一个重要部分 ,如何实现和利用 IP核减小 SOC设计的复杂度成为目前微电子设计中的热点。将 U ART通信技术核心功能设计成紧凑的 IP核 ,易于应用在各种嵌入式环境。本文说明了如何使用 System C语言工具设计该 IP核。