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PVPEC:PTC和V-PTC材料优化设计专家系统
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《计算机与应用化学》1996年 第1期13卷 39-42页
作者:陆文聪 朱兴文 阎立诚 陈念贻上海大学化学系中国科学院上海冶金研究所 
在用模式识别、人工神经网络法总结PTC和V-PTC材料诸性能与其配方及工艺间关系基础上,建立了能检索和预报PTC和V-PTC材料性能与其配方及工艺间双向关系的专家系统PVPEC。该系统将为PTC和V-PTC材料优化设...
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非晶态合金薄带制取装置
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《物理》1990年 第1期19卷 31-33页
作者:沈楚英 潘庭俭 吴阳阳 苏竞高冶金工业部上海钢铁研究所 
应用急冷技术制成非晶态合金薄带的研究工作,目前在国内发展较快.随着产品需求量的增加,新工艺、装备、技术研究必须由实验室走向工业生产.本文介绍 50 kg级非晶薄带制取装置.该设备设计结构独特,技术先进,是目前我国容量较...
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若干二元卤化物固溶体的形成规律
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《高技术通讯》1993年 第12期3卷 20-22页
作者:钦佩 陈念贻中国科学院上海冶金研究所 
用化学键参数与模式识别-人工神经网络方法相结合,研究了若干类型的卤化物二元相图中固溶体的形成规律,这些规律构成了新材料设计专家系统的基础,该专家系统的作用之一是对未知卤化物系固溶体形成情况作计算机预报。
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发射激光脉冲用的高速pnpn闸流管的设计与制造
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《半导体技术》1999年 第3期24卷 33-37页
作者:何德湛中国科学院上海冶金研究所微电子学分部 
介绍了发射激光脉冲用的高速pnpn闸流管的设计、制造方法及参数测试结果。该器件可用于激光通信、引信(引爆)、测距、小型雷达、模拟射击、游戏枪、车辆防碰撞等方面,也可用于各种脉冲电源及脉冲开关。
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GDL图形处理系统的图形变换方法
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《计算机辅助设计与图形学学报》1991年 第3期3卷 66-68,52页
作者:杨峥嵘 甘骏人 姚林声中国科学院上海冶金研究所200050 
本文提出的图形变换方法是一种新的带参量的图形变换方法,已在GDL图形处理系统中实现。
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(ZnSe/Cdse)ZnSe/GaAs(001)多量子阱材料的X射线双晶衍
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《红外与毫米波学报》1995年 第3期14卷 167-174页
作者:朱南昌 李润身 陈京一 彭中灵 袁诗鑫中国科学院上海冶金研究所中国科学院上海技术物理研究所 
给出了通过测量3条X射线双晶衍射摇摆曲线计算多层外延材料各层成份、界面共格度及晶向偏角的方法,并对(CdSe/ZnSe)ZnSe/GaAs(001)多量子阱材料的结构、应变及界面进行了研究.结果表明:ZnSe缓冲层与...
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大型转炉低硅铁水炼钢研究
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《钢铁》2005年 第8期40卷 22-25页
作者:杨文远 吴文东 王明林 石洪志 王涛钢铁研究总院冶金工艺研究所北京100081 宝山钢铁股份有限公司技术中心上海201900 
针对转炉低硅铁水炼钢成渣困难,渣量少不利于脱磷,容易产生粘枪、粘烟罩等问题,在吹炼过程中加入适量熔剂,枪位稍高于正常含硅铁水炼钢,设计化渣效果好、喷溅少的多孔喷头。低硅铁水炼钢化学热减少,可减少矿石、废钢用量,保证熔池金属...
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新颖的衬底pn结隔离型硅射频集成电感(英文)
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《Journal of Semiconductors》2001年 第12期22卷 1486-1489页
作者:刘畅 陈学良 严金龙中国科学院上海冶金研究所微电子学分部上海200233 
提出了一种新的减小硅集成电感衬底损耗的方法 .这种方法是直接在硅衬底形成间隔的 pn结隔离以阻止螺旋电感诱导的涡流 .衬底 pn结间隔能用标准硅工艺实现而不需另外的工艺 .本文设计和制作了硅集成电路 ,测量了硅集成电感的 S参数并且...
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采用不同工艺的CMOS钟电路分析及设计
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《半导体技术》1997年 第3期13卷 33-36页
作者:余宽豪 须国宗中国科学院上海冶金研究所微电子学分部 
对早期开发的铝栅CMOS4.19MHz钟电路和近期研制的硅栅CMOS4.19MHz钟电路进行了详细分析比较。随着工艺技术的不断提高和设计改进,使得电路在降低功耗、减小面积方面更加完善,从而提高性能价格比。
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中红外GaInAsSb PIN多结光伏探测器设计与数值模拟
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《固体电子学研究与进展》2002年 第1期22卷 114-119页
作者:梁帮立 夏冠群 周咏东 范叔平中国科学院上海冶金研究所200050 苏州大学物理系215006 
从非平衡载流子的扩散 -复合理论出发 ,提出 PIN多结探测器材料结构 ,并建立了理论模型进行定量计算 ,从理论上解决了不能同时兼顾增大量子效率与光电增益和降低噪声的矛盾。利用该模型对 Ga In As Sb材料体系作了数值模拟 ,单结器件性...
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