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一种新型掩模板设计方法
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《集成电路应用》2003年 第7期20卷 41-43页
作者：来凯泉 周京英 倪凌云 曹余新上海华虹NEC电子有限公司Foundry部 
1 概述本文介绍一种在同一块掩模板上制作多个掩模工程的新型掩模板设计方法-MLM(Multi-Layer Mask)。该方法可以实现集成电路开发设计中,掩模板制作费用的大幅下降,极大地降低集成电路产品开发成本。
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