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芯片制造语境下的计算光刻技术: 收藏
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引用; 《激光与光电子学进展》2022年第9期59卷 1-14页; 作者：施伟杰俞宗强蒋俊海车永强李思坤东方晶源微电子科技(北京)有限公司北京100176 中芯北方集成电路制造(北京)有限公司北京100176 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电子技术实验室上海201800; 计算光刻技术是提高分辨率的重要手段,是连接芯片设计与制造的桥梁。首先,介绍了计算光刻技术的起源即第1代光学邻近效应校正(OPC)技术,基于规则的OPC;随后,以14 nm芯片制造过程为例介绍了现代芯片制造采用的各种计算光刻技术,包括基于...; 计算光刻技术是提高分辨率的重要手段,是连接芯片设计与制造的桥梁。首先,介绍了计算光刻技术的起源即第1代光学邻近效应校正(OPC)技术,基于规则的OPC;随后,以14 nm芯片制造过程为例介绍了现代芯片制造采用的各种计算光刻技术,包括基于模型的第2代OPC技术、光源掩模联合优化技术、二次成像图形拆分技术。最后,介绍了计算光刻的发展趋势,包括反向光刻技术、曲线掩模、人工智能应用及协同优化。综合芯片设计、制造、检测的集成优化将是未来计算光刻发展的主要方向。; 来源：详细信息评论

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