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检索条件"机构=中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室"
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金属纳米结构的形状对其消光特性的影响研究
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光学学报》2010年 第9期30卷 2629-2633页
作者:马文英 杨欢 刘娟意 倪祖高 唐东升 姚军中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209 中国科学院研究生院北京100049 湖南师范大学物理与信息科学学院湖南长沙410081 
推导了任意形状金属纳米结构的局域表面等离子体共振波长的解析解,分析了金属纳米结构的形状对其消光特性的影响。计算与分析结果表明,在空气中(折射率n=1.0),某种金属的纳米结构的消光光谱谐振波长仅与形状有关,形状参数L可以拟合为宽...
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基于ZYNQ的用于间隙测量的白光干涉信号处理系统
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《光电子技术2020年 第4期40卷 277-283页
作者:董晓璇 刘明刚 罗先刚 高平中国科学院微细加工光学技术国家重点实验室成都610209 中国科学院光电技术研究所成都610209 中国科学院大学北京100049 
为实现在表面等离子体光刻机中对掩模与基片间的间隙测量,提出一种基于白光干涉测量技术的掩模-基片间隙测量方法,并设计了以ZYNQ芯片为核心的信号处理系统。以ZYNQ芯片的片上ARM用作参数设定、驱动控制以及前端显示,以可编程逻辑资源...
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微机械往复式无阀泵的振动特性分析
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光学精密工程》2005年 第z1期13卷 98-102页
作者:王皓 罗先刚 姚汉民 杜春雷电子科技大学机械电子工程学院四川成都610054 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室四川成都610209 
提出了用于研究微机械往复无阀泵动态特性的二自由度振动力学模型,并进行了分析与实验验证。在模型中增加考虑泵腔内气泡因素,并将泵腔内、外液体质量的影响分开考虑;得出振幅随频率、泵腔内外液体质量比变化的曲线;发现其幅频曲线一般...
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影响全息光刻图形质量的因素
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《Journal of Semiconductors》2003年 第12期24卷 1335-1339页
作者:陈芬 周亚训 冯伯儒 张锦宁波大学信息科学与工程学院 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都610209 
使用矩阵转换方法 ,对全息光刻中全息掩模衍射效率进行了数值模拟计算 ,讨论了记录介质显影前后特性的改变和再现时全息掩模复位精度对光刻图形质量的影响 ,并找出了影响图形质量的主要因素 .在此基础上设计了实验系统 ,最后得到了分辨...
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衍射光学二维激光扫描器设计制作研究
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光学学报》1999年 第2期19卷 254-260页
作者:周崇喜 杜春雷 郭永康 邱传凯 周礼书 林大键中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 
提出、设计并采用激光直写和反应离子刻蚀技术制作出一种新型的衍射光学纯相位型二维激光扫描器,并进行了系统参数的实验测试,其扫描角度为25°×25°,衍射效率为41%。
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静电排斥驱动六边形MEMS微镜(英文)
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《纳米技术与精密工程》2010年 第2期8卷 171-176页
作者:胡放荣 王爱娜 邱传凯 姚军中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都610209 桂林电子科技大学电子工程学院桂林541004 
为消除静电吸引型微镜因存在静电吸合效应而导致的短路现象,基于电场的非均匀分布可以产生静电排斥力的原理,设计了一种静电排斥型六边形微机械反射镜.微镜包含7组驱动电极,最大的一组驱动电极由镜面和其正下方的六边形下电极组成,其他...
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MEMS交叉梳齿光栅设计和优化
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《微纳电子技术2011年 第12期48卷 787-791页
作者:张恒 姚军 庄须叶 陶逢刚 汪为民中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室成都610209 中国科学院研究生院北京100049 
采用MEMS技术设计和制造了一种由梳齿驱动器驱动的新型交叉梳齿光栅,同时优化了该光栅的驱动器结构,着重分析了优化驱动器结构对光栅机械特性和光学传感特性的影响,优化后的光栅相对于未优化时具有更大的位移、更好的光学传感特性。基于...
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二元光学二维激光扫描器设计
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《光电工程》1997年 第S1期24卷 58-63页
作者:周崇喜 杜春雷 邓启凌 郭永康中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 四川联合大学物理系 
提出一种新型的二元光学二维纯位相型激光扫描器。首先利用计算全息图CGH的设计方法设计出扫描器的初始结构参数,最后把其看成衍射光学元件(DOE)对其进行成象质量优化。设计出一电视制式的二维扫描器,其扫描范围为±12...
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制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法
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《光电工程》2003年 第1期30卷 5-7页
作者:冯伯儒 张锦 宗德蓉 蒋世磊中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 四川大学物理系四川成都610064 
介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方...
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一种新型MEMS离面驱动器的设计与分析
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《微纳电子技术2009年 第9期46卷 546-550,556页
作者:任豪 姚军 胡放荣 邱传凯中国科学院光电技术研究所微细加工与光学技术国家重点实验室成都610209 中国科学院研究生院北京100039 
提出了一种基于静电排斥效应的MEMS离面驱动器,在消除静电拉入效应的同时得到了较大的静电排斥力。驱动器主要由三个下极板、一个上极板和弹簧梁组成。首先进行了静电排斥现象原理的分析,然后对弹簧梁中有和没有横梁时的弹性系数和模态...
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