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不同狭缝与遮挡条设计对TFT特性的影响与规律(英文)
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《液晶与显示》2011年 第2期26卷 165-169页
作者:周伟峰 薛建设 金基用 刘翔 明星 郭建 陈旭 闵泰烨京东方科技集团技术研发中心北京100176 北京京东方光电科技有限公司北京100176 
通过对掩膜版上不同狭缝与遮挡条设计与TFT沟道形貌、电学特性相互关系的分析,发现随着狭缝与遮挡尺寸的减小,TFT的电学特性、沟道处光刻胶起伏与最终关键尺寸偏移量都会改善。狭缝的尺寸比遮挡条的尺寸对TFT特性的影响更加显著。考虑...
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叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究
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《液晶与显示》2017年 第12期32卷 956-960页
作者:舒适 齐永莲 徐传祥 张锋 崔承镇京东方科技集团股份有限公司技术研发中心北京100176 
本文研究了液晶显示面板彩色滤光片工艺中以叠层方式形成隔垫物的关键技术问题,即叠层隔垫物高度控制、主-附隔垫物段差的形成和主-附隔垫物段差受后续平坦层工艺的影响变化等,并提出了解决方案。在黑矩阵、红色、绿色、蓝色滤光层形成...
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一种低能耗的CCFL液晶电视背光源设计
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《液晶与显示》2011年 第4期26卷 480-485页
作者:邓毅 布占场 郑效盼 金雄 李智 鹿堃 王伯长 孙彦军 王飞京东方科技集团股份有限公司产品开发中心北京100176 
讨论了混光腔高度、反射膜边角角度、CCFL灯管数量和间距、灯管与反射膜之间距离以及扩散板类型对模组光学利用率和光学效果的影响。以119.4cm(47in)CCFL液晶电视为例,使用Solidworks模拟出一组较优化的机械光学参数,并根据模拟参数完...
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多模态数据驱动的城市固废焚烧过程验证平台设计与实现
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《中国电机工程学报》2023年 第12期43卷 4697-4707页
作者:王天峥 汤健 夏恒 潘晓彤 乔俊飞 刘溪芷北京工业大学信息学部北京市朝阳区100124 京东方科技集团股份有限公司北京市丰台区100176 
鉴于城市固废焚烧(municipal solid waste incineration,MSWI)过程控制系统的封闭特性与工业现场的安全性要求,如何实现离线多模态数据的时间同步发布和如何搭建数据驱动预测模型的类工业现场验证环境,是实现智能建模算法落地应用需首...
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低功耗TFT-LCD驱动方法
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《液晶与显示》2012年 第6期27卷 785-788页
作者:商广良 赵天月 赵星星 王强涛 姚琪 杨亚锋 张玉婷 张凯亮 冷长林 张丽蕾 金瑞润 柳在一 王刚京东方科技集团股份有限公司技术中心北京100176 
为了降低薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的功耗,提出了一种新的双栅之型反转驱动方法。研究了双栅之型反转驱动技术的节能原理,完成了相关结构设计、电路设计,制作了35.6cm(14in)WXGA(1 366RGB×768)样品,测试并分析了节能效果。结...
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大尺寸液晶电视用LED背光源的设计与制作
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《液晶与显示》2006年 第5期21卷 539-544页
作者:刘敬伟 王刚 马丽 张凯亮 张丽蕾 王庆江 万丽芳京东方科技集团股份有限公司中央研究院北京100016 
设计和制作了一款66cm(26in)液晶电视用LED背光源。模拟出LED的光学分布,以此为基础模拟出LED阵列的光强和颜色分布,得到适合的背光源厚度尺寸。在实际制作中,采用高效的驱动电路对LED阵列进行驱动,利用铝制散热片为背光源提供必须的散...
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一种侧光式LED背光源的电路设计
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《液晶与显示》2010年 第2期25卷 250-252页
作者:李秀真 许燕文 万丽芳 王庆江 赵星星北京京东方茶谷电子有限公司北京100176 京东方科技集团股份有限公司中央研究院北京100016 
设计了一款侧光式LED背光源。LED阵列选择长条式设计,用铝基板加工制作。驱动模块采用升压转换器,支持过压保护。控制模块通过单片机产生PWM波对LED灯条进行亮度控制。所设计的背光源电路简单,支持按键式调光,中、大尺寸LED背光源均可...
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TFT-LCD横向线状未确认Mura分析及改善研究
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《液晶与显示》2013年 第4期28卷 539-546页
作者:徐伟 彭毅雯 雷有华 邱海军清华大学电子工程系北京100084 北京京东方显示技术有限公司客户服务部北京100176 京东方科技集团股份有限公司Module材料企划部北京100176 京东方科技集团股份有限公司TV部北京100176 
研究了产品开发过程中新出现的一种原因未知的横向线状Mura问题。通过分析和改善研究表明,Gate Fan-out区域栅极线金属交替布线设计中不同金属层线电阻差异是导致横向线状未确认Mura发生的主要原因;通过变更栅极线金属层厚度及材料,以...
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利用CF_4等离子体制作高开口率TFT-LCD(英文)
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《液晶与显示》2006年 第5期21卷 409-413页
作者:金奉柱 崔瑩石 劉聖烈 張炳鉉 柳在一 李禹奉 李貞烈京东方科技集团股份有限公司中央研究院北京100016 
为了获得高的开口率,有必要优化设计参数和工艺容差。通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀,但是这种方法在金属和钝化层之间的选择性太小,因此,必须增加过孔的尺寸才行。为了克服上述问题,在本研究中用CF4气体代替SF6气体进行刻蚀...
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基于PenTile RGBW^(TM)算法的高像素密度a-Si TFT移动液晶显示屏(英文)
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《液晶与显示》2006年 第5期21卷 474-477页
作者:全眞永 姜昌憲 安星俊 田正牧 李貞烈京东方科技集团股份有限公司中央研究院研发1部 
采用传统的移动设备设计规则,基于PenTile RGBWTM算法开发了a-Si TFT移动液晶显示屏。将AFFS模式和PenTile RGBWTM算法相结合,制作的TFT液晶屏获得了超过200 cd/ m2的高亮度,500∶1的高对比度,以及达到VGA标准,可以清晰显示互联网网页...
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