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检索条件"机构=北京理工大学光电学院光电成像技术与系统重点实验室"
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日盲紫外拉曼光谱遥测系统及其检测实验
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《光谱学与光谱分析》2025年 第3期45卷 706-711页
作者:王维林 郭一新 金伟其 裘溯 何玉青 郭宗昱 杨书宁北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 昆明物理研究所微光夜视技术重点实验室陕西西安710065 
拉曼光谱检测广泛应用于毒品、化学品泄漏、食品安全、爆炸物残留等领域,而传统可见光或近红外光的拉曼光谱系统受环境光影响大,通常需在封闭的样品盒或夜间条件下进行拉曼光谱检测;常规的紫外拉曼光谱检测则多以微距为主,难以在自然光...
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内可见光通信发光二极管阵列发射性能的研究
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《物理学报》2014年 第23期63卷 440-447页
作者:刘浩杰 蓝天 倪国强北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 
提出了一种基于Lambert辐射模型的发光二极管光源阵列发射天线光照度计算模型,对内可见光通信发射天线进行了优化设计.分析了光源的空间分布形式、光源间距、光源中心光束与系统光轴夹角以及空间分布层间距等因素对光照度均匀性的影响...
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内可见光通信复合光学接收端设计与分析
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《物理学报》2017年 第8期66卷 125-133页
作者:王云 蓝天 倪国强北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 
本文提出了一种适用于内可见光通信的新型光学接收端的设计.根据复合抛物面聚光器的聚光特性,将光电探测器与复合抛物面聚光器耦合作为接收子单元,并将这些接收子单元按照特定的几何关系嵌入一个半球面中,得到角度分集型的复合光学接...
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考虑探测器γ特性的光电偏振成像系统偏振信息重构方法
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《物理学报》2016年 第9期65卷 61-69页
作者:刘敬 金伟其 王霞 鲁啸天 温仁杰北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 
由于探测器响应的γ特性,造成光电偏振成像中直接利用图像灰度重构的偏振信息与真实目标场景偏振信息的严重偏离,基于重构偏振信息的后续定量化处理将完全失去意义.为此,提出了一种考虑探测器γ特性的光电偏振成像系统偏振信息重构方法...
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高数值孔径自由曲面极紫外光刻物镜光学设计
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《红外与激光工程》2019年 第8期48卷 170-176页
作者:毛姗姗 李艳秋 刘克 刘丽辉 郑猛 闫旭北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室 
高分辨率需求牵引极紫外光刻(EUVL)投影物镜向高数值孔径(NA)、自由曲面设计形式发展。传统的非球面EUVL物镜设计难以在高数值孔径下兼顾校正像差的需求,往往造成遮拦,破坏成像对比度。提出了一种高NA无遮拦自由曲面EUVL物镜设计方法。...
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大气水汽探测拉曼激光雷达系统仿真设计
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北京理工大学学报》2014年 第6期34卷 617-621页
作者:陈胜哲 张寅超 陈思颖 陈和 郭磐 步志超 葛宪盈北京理工大学光电学院光电成像技术与系统重点实验室北京100081 
设计了发射波长为532 nm测量大气水汽的拉曼激光雷达系统。结合系统误差理论分析,验证系统夜间测量水汽的高效性和白天测量水汽的可行性。通过对比不同发射波长的拉曼激光雷达系统的回波信号与信噪比,得出最优系统参数能够实现白天0~4...
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新型功能超颖表面波前调制技术的发展与应用(特邀)
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《红外与激光工程》2019年 第10期48卷 1-16页
作者:黄玲玲 魏群烁 王涌天北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室 
超颖表面作为一类智能表面,通常由特殊设计、加工而得到的特征尺寸接近或小于波长的亚波长纳米天线阵列构成。超颖表面能够实现光场的振幅、相位和偏振的人为调控,具有超薄、超小像素、宽带、低损耗、易加工等优势,设计灵活,功能强大。...
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极紫外光刻机曝光系统光学设计研究与进展
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《光学学报》2023年 第15期43卷 318-333页
作者:李艳秋 南雁北 陈雨情 闫旭 张心怡 刘丽辉北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 
极紫外光刻曝光光学系统是极紫外光刻机的核心部件,其设计直接影响极紫外光刻机的性能。极紫外光刻机曝光系统的设计难度大、研究周期长,国外极紫外光刻机产品已经用于高端芯片的制造,但国外对中国禁运相关产品。国内极紫外光刻机曝光...
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组合倍率极紫外光刻物镜系统梯度膜设计方法
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《光学学报》2020年 第5期40卷 164-171页
作者:刘陌 李艳秋北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 
随着极紫外(EUV)光刻物镜的设计朝着组合倍率物镜系统的方向发展,物镜系统需要同时具有大视场和高数值孔径(NA),因而产生了物镜的光线入射角及入射角范围急剧增大的问题,需要研究适用于组合倍率极紫外光刻物镜系统的膜层设计的新方法。...
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16~22nm极紫外光刻物镜工程化设计
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《光学学报》2013年 第9期33卷 249-256页
作者:曹振 李艳秋 刘菲北京理工大学光电学院光电成像技术与系统教育部重点实验室北京100081 
极紫外光刻是16~22nm光刻技术节点的候选技术之一,其投影物镜设计需在满足像质和分辨率要求的前提下,兼顾工程可实现性。在考虑加工、检测和制造约束的情况下,设计了像方数值孔径分别为0.3和0.32、曝光视场为26mm×1.5mm的极紫外...
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