摘要：讨论了激光扫描共焦荧光显微系统的光学设计问题，成象机理，参数确定及其设计关键，介绍了高精度光学扫描器件的设计方法及实现荧光共焦成象中成象器件的优化设计。

摘要：通过考虑互相关联的光学和工艺参数 ,设计了 3～ 5 μm红外 12 8× 12 8硅衍射微透镜阵列 .阵列中微透镜的孔径为 5 0 μm,透镜 F数为 f/ 2 .5 ,微透镜阵列的中心距为 5 0 μm.采用多次光刻和离子束刻蚀技术在硅衬底表面制备衍射微透镜阵列 .对实际的工艺过程和制备方法进行了讨论 ,对制备出的 12 8× 12 8硅衍射微透镜阵列的光学性能和表面浮雕结构进行了测量 .

摘要：本文从理论上分析了用于红外电荷耦合器件（ＩＲＣＣＤ）的微透镜成象的机理，采用光线追迹法建立了微透镜阵列的数学模型和设计方法，并针对１２８×１２８元ＰｔＳｉ－ＩＲＣＣＤ进行了计算机模拟设计。研究结果表明，采用微透镜阵列可使ＩＲＣＣＤ的填充因子达到１００％。

摘要：通过考虑互相关联的光学和工艺参数 ,设计了 3～ 5μm红外 12 8× 12 8硅衍射微透镜阵列。阵列中微透镜的孔径为 10 0μm,透镜 F数为 f / 1.5,微透镜阵列的中心距为 10 0μm。采用多次光刻和离子束刻蚀技术在硅衬底表面制备衍射微透镜阵列。对实际的工艺过程和制备方法进行了讨论 ,对制备出的 12 8× 12 8硅衍射微透镜阵列的光学性能和表面浮雕结构进行了测量。

摘要：基于等效媒质理论 ,对周期性浮雕结构的抗反射特性进行了分析和研究 .给出了二维对称的抗反射浮雕结构等效光学参数的估算方法 .提出了基于最小特征尺寸考虑的脊基和隙空的设计概念 .利用离子束刻蚀工艺技术 ,在 Si片上制备了一种两维红外抗反射浮雕图案 .测试结果表明 ,这种表面结构像单层抗反射膜一样 ,具有很好的增透效果 ,表面结构的等效折射率相当于镀层材料折射率 ,而刻蚀深度则相当于镀层的 1/ 4波长厚度 .

摘要：对高温超导测热辐射计（Ｂｏｌｏｍｅｔｅｒ）在红外热成象研究的应用方面作探索性研究，根据高温超导Ｂｏｌｏｍｅｔｅｒ的探测机理和噪声理论，设计与之相匹配的电路系统，实现对探测信号的不失真的放大、传输和处理，为高温超导红外探测器实用化研究提供实验依据。

摘要：运用等效媒质理论对亚波长结构的抗反射表面进行了分析 ,设计出了一种抗反射表面结构 ,并利用二元光学制作工艺技术 ,对这种表面进行了实验制备。测试结果表明 ,这种表面结构就像单层抗反射膜一样 ,具有很好的增透效果 ,表面结构的等效折射率相当于镀层材料折射率 。

摘要：设计了一种具有圆对称波导的半导体激光器 ,利用有限差分 -光束传播法 (FD- BPM)研究了半导体激光器圆波导的远场图象 (FFP)与波导参量的关系 。

摘要：设计了一种新颖的半导体光纤温度传感器。通过实验的方法研究了采用不同光源时传感器的输出特性。根据实验数据分析了传感器的灵敏度、测温范围、线性度和重复性与光源光谱特性之间的关系。

摘要：分析了全息光学头的系统结构及伺服机理，对关键元件ＨＯＥ槽纹的轮廓进行优化设计，在保持光学头性能不变的情况下。