摘要：　为克服机械结构因素对光电跟踪伺服系统性能的不良影响,分析了转动惯量、结构谐振频率、摩擦力矩等伺服机械结构因素与伺服系统性能的关系,包括分析转动惯量与伺服系统性能的关系、结构谐振频率与伺服系统性能的关系、摩擦力矩与伺服系统性能的关系,探讨了消除或减小机械谐振的措施。该分析方法可应用于设计和制造响应速度快、跟踪精度高的光电跟踪伺服系统。

摘要：讲述了以TI公司生产的数字信号处理器(DSP)TMS320F240为主控芯片的双变换在线式UPS数字化的设计方法,给出了比较详细的系统结构,建立了控制系统的数学模型,给出了相应控制器的设计,实验结果证明采用数字化控制的UPS具有良好的动态性能。

摘要：介绍了模块UPS系统中基于SJA1000的PeliCAN模式的智能节点的设计方法,以TI公司的DSP芯片TMS320F240为各节点主控CPU,以独立的CAN控制器SJA1000以及82C250总线收发器构成智能节点电路.该系统的智能节点设计实用,对于研制其他应用CAN总线产品具有借鉴意义.

摘要：近年来 ,电流变液体减振器受到了广泛的关注 ,设计了一种新型电流变液体减振器 ,并将其应用于汽车半主动悬架系统 ,该系统具有响应快、控制容易、结构简单和能源消耗低等特点。建立了新型电流变液体减振器半主动悬架的动力学模型 ,并对其进行了仿真研究 ,仿真结果表明 。

摘要：采用大规模集成电路的多次掩模光刻和刻蚀技术制作二元光学元件阵列是较为传统和实用的制作方法,其工艺过程主要包括:利用光刻技术将设计的掩模版图形转印到有光刻胶的衬底表面;利用刻蚀技术将光刻胶的图形转移到衬底表面,形成所需的表面浮雕结构.在工艺中,光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重要的作用.光刻和刻蚀两道工序都要求实际图形与掩模版的图形达到很高的一致性,这样才能实现元件被高保真地制作到衬底上.在整个工艺过程中,由于不同光刻胶在甩胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀或腐蚀等工艺中表现不同的行为特性:附着性、均匀性、边缘效应、分辨率、感光度、高温形变、耐刻蚀性等等,使得所制作的器件性能有较大的区别.本文详细研究了不同光刻胶在不同工艺过程中的行为.在二元光学元件的制作中,通过选用不同的光刻胶:在第一次光刻刻蚀台阶较深时,选择粘度系数较大,高感光度,耐刻蚀的厚胶;在套刻中,刻蚀台阶较浅时,选用高分辨率、高陡直度、耐高温的薄胶,最终制作出了性能良好的二元光学元件.(OD2)

摘要：介绍了晶体型interleaver器件的基本工作原理,同时应用傅立叶级数的方法对interleaver输出光谱带宽特性进行优化设计.理论计算表明interleaver器件的自由光谱范围只和第一级晶体滤波器的长度有关.而输出光谱的带宽特性与晶体滤波器的串联级次有关.当满足不同相位条件的多级晶体滤波器串联时,调节各级双折射晶体光轴之间的夹角可以改变光强表达式中各级谐波对应的系数,从而改善输出光谱带宽特性.本文重点分析了两级晶体滤波器串联时的情况,并从实验上验证了理论分析的正确性.实验结果显示,经过带宽优化设计后的器件,输出光谱特性得到了明显改善.同时通过分析还发现,该带宽优化理论同样适用于马赫-陈德尔涉仪型interleaver的设计.(OD13)

摘要：文字和文档图像在工作及日常生活中无处不在,文字承载的丰富而精确的语义信息,在人工智能应用场景中非常重要,如文档数字化、手写输入、图像检索、智能检测、工业自动化、机器人导航、信息安全、智能阅卷、教育信息化、电子政务、广告图片编辑、增强现实翻译等。因此,文档图像分析与识别,或称光学字符识别(OCR),是极其重要的人工智能技术之一,符合国家四个面向重大需求。