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模压全息图的再现过程
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《光技术》1995年 第6期21卷 11-13页
作者:刘宁华南师范大学量子电子学研究所 
本文就模压全息图的再现过程进行了论述。由于模压全息图的特殊性,本文论述了模压全息图再现时的一些现象,这对于设计2D/3D模压全息图有一定的参考意义。
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孤子在色散缓变光纤中的传输特性研究
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《光报》1994年 第3期14卷 287-291页
作者:徐文成 郭旗 廖常俊 刘颂豪华南师范大学量子电子学研究所中国科学技术大学 
从理论上分析了超短光脉冲在色散缓变光纤中无畸变传输要求的色故变化关系,设计了单模缓变光纤结构参数.数值模拟验证了理论分析结果,指出改变光纤色散参数完全可以克服光纤损耗对光孤子波形的畸变影响.
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用于光存储系统的全息光元件
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《光电子.激光》1991年 第6期2卷 333-334页
作者:李明智华南师范大学量子电子学研究所 
在光数据存储系统中,全息光元件具有尺寸小、重量轻、能获得高速跟踪和快速搜寻,同时,还具有分束功能。经分析本文进而认为将其推广到可擦光磁存储领域,其必须具有正弦表面结构及偏振特性。本文还对该元件进行了设计。
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半导体磁阻式电流传感器的信号处理电路设计
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《仪器仪表报》2002年 第Z1期23卷 136-137页
作者:王冰 黄钊洪 周冬跃华南师范大学量子电子学研究所广州510631 
设计了一种可以对微变信号进行提取与放大的信号处理电路 ,它适用于 In Sb- In共晶体磁阻元件 (MR)制成的半导体薄膜型电流传感器 (MRCS)。通过实验 ,研究了此种电流传感器的工作特性 ,其通频带为 7Hz- 180 0 Hz。
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金属薄膜电阻温度传感器的结构设计探讨(二)
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《仪表技术与传感器》1991年 第5期 21-22页
作者:陈佩娴华南师范大学量子电子学研究所 
2.图形设计 图形设计主要是决定金属薄膜线条的几何尺寸,用l表示线条长度,d表示线条宽度,h表示金属薄膜的厚度,则传感器的额定阻值(R0)可表示为:R0=ρl/dh(10)式中ρ——金属薄膜的电阻率 以铂薄膜电阻温度传感器的设计为例。
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金属薄膜电阻温度传感器的结构设计探讨(一)
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《仪表技术与传感器》1991年 第4期 28-30页
作者:陈佩娴华南师范大学量子电子学研究所 
本文分析了金属薄膜电阻温度传感器的工作原理,据此探讨了传感器的结构设计要点,并对初步实验结果进行了讨论。
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InSb-In共晶体薄膜磁阻式电流传感器
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《传感器技术》2001年 第7期20卷 11-13页
作者:黄钊洪华南师范大学量子电子学研究所广东广州510631 
介绍一种用锑化铟—铟 (InSb -In)共晶体薄膜磁阻元件 (MR)制成的电流传感器 (MRCS) ,并设计了一种能较大幅度增大其输出电压的信号处理电路。当处理电路的电压增益为 80db ,待测的 5 0Hz交流电流在 40~ 110mA之间变化时 ,输出电压在约...
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半导体磁头在袖珍验钞器中的应用
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《传感器技术》2002年 第3期21卷 45-46,50页
作者:周冬跃 黄钊洪 蒋少卿 邝志锋 谭燕枝华南师范大学量子电子学研究所广东广州510631 
设计了一种应用在袖珍验钞器电路中的采用锑化铟 -铟 (InSb In)共晶体薄膜型半导体磁头的信号处理电路 ,研究了这种电路的工作特性。实验证明 :对新版人民币的金属安全线进行磁性信号采集时 ,磁头输出端信号电压的变化量在 - 0 .4mV至 0...
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AWG结构的优化设计
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《光子报》2004年 第3期33卷 272-276页
作者:张小康 廖常俊 刘颂豪华南理工大学应用物理系广东广州510640 华南师范大学量子电子学研究所广东广州516031 
通过分析AWG中心波导倾角特性 ,优化焦点间距 ,提出了两个结构约束方程 ,得出了结构紧凑的AWG设计方法 根据这一方法 ,可以由一定损耗条件下的最小弯曲半径和接口参数—接口处输入 /输出波导间距和最短直波导长度 ,优化并完全确定其它...
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高亮度发光二极管中的电注入和光输出过程的理论分析
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《发光报》2002年 第3期23卷 255-260页
作者:邓云龙 廖常俊 刘颂豪 范广涵 文尚胜华南师范大学量子电子学研究所MOCVD室广东广州510631 
通过对典型结构的高亮度发光二极管 (HB LED)的注入电流扩展以及器件的光输出的理论分析 ,计算了LED的电流密度分布和光输出效率与顶层厚度的关系 ,结果表明顶层厚度对器件光电特性的影响很大 ,较厚的顶层可以使器件的注入电流容易扩展...
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