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用离子注入技术制作的砷化镓霍尔传感器
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《计算机自动测量与控制》1999年 第1期7卷 51-54页
作者:夏先齐 茅保华南京西格玛微电子研究所 
针对器件低内阻下的高灵敏度这一器件特性上的难题,在砷化镓霍尔传感器设计中采用非对称十字形结构。在制作上采用全离子注入平面化技术,获得了在800Ω内阻上大于25mV/mA·KG的高灵敏度。
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