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检索条件"机构=吉林化工学院材料科学与工程研究中心"

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Pr^(4+)离子并入BaTiO_3的Ti位的探索: 收藏
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引用; 《吉林化工学院学报》2013年第7期30卷 91-93页; 作者：刘贝路大勇吉林化工学院材料科学与工程研究中心吉林吉林132022 吉林大学化学学院吉林长春130021; 为了开发Pr4+在BaTiO3陶瓷Ti位的EPR样品,采用冷压陶瓷技术制备Pr掺杂和La/Pr共掺杂BaTiO3陶瓷.研究表明:即使在Ti位占据的Pr4+设计下,增加Pr含量也不能迫使Pr离子进入Ti位,并产生第二相.对于名义分子式为(Ba1-xLax)(Ti1-y-x/4Pry)O3(BL...; 为了开发Pr4+在BaTiO3陶瓷Ti位的EPR样品,采用冷压陶瓷技术制备Pr掺杂和La/Pr共掺杂BaTiO3陶瓷.研究表明:即使在Ti位占据的Pr4+设计下,增加Pr含量也不能迫使Pr离子进入Ti位,并产生第二相.对于名义分子式为(Ba1-xLax)(Ti1-y-x/4Pry)O3(BLTP)的陶瓷,借助La3+在Ba位的并入,也很难将Pr离子以Pr4+形式挤压到BaTiO3陶瓷的Ti位,但可形成低Pr掺杂的单相陶瓷.; 来源：详细信息评论

分子玻璃光致抗蚀剂研究进展: 收藏
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引用; 《吉林化工学院学报》2012年第9期29卷 12-16页; 作者：徐娜刘玉芹王金玲胡勇孟磊吉林化工学院研究生处吉林吉林132022 吉林化工学院材料科学与工程研究中心吉林吉林132022 中国石油吉林石化公司乙烯厂吉林吉林132022 吉林市龙潭区第二实验幼儿园吉林吉林132021 中山市福瑞特科技产业有限公司广东中山528400; 随着半导体芯片集成度的快速提高,光刻技术的分辨率正由90、65和45 nm迈向更先进的32 nm或以下.而分子玻璃体抗蚀剂可能是下一代光刻技术的最好选择.本文阐述了分子玻璃光致抗蚀剂的设计思想,并介绍了几种性能良好的分子玻璃光致抗蚀剂.; 随着半导体芯片集成度的快速提高,光刻技术的分辨率正由90、65和45 nm迈向更先进的32 nm或以下.而分子玻璃体抗蚀剂可能是下一代光刻技术的最好选择.本文阐述了分子玻璃光致抗蚀剂的设计思想,并介绍了几种性能良好的分子玻璃光致抗蚀剂.; 来源：详细信息评论

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