摘要：列扩展设计是添加试验因素,并安排跟随试验的一个重要方法.本文分别构造了四水平和五水平的列扩展设计,基于平均混合偏差准则研究了该类设计的均匀性,并得到了四水平和五水平列扩展设计的平均混合偏差的一个新的下界.数值例子表明本文中构造的列扩展设计具有非常高的效率.

摘要：当研究目标的实际测量具有不可修复的破坏性或耗资巨大时,有效的抽样设计将是一个重要的研究课题.在统计推断方面,排序集抽样(RSS)现在是被视为一种比简单随机抽样(SRS)更为有效的收集数据的方式.本文在中位数RSS(MRSS)下,研究了刻度参数的极大似然估计(MLE)及其性质.证明了该MLE在刻度变换群下是一个同变估计.以威布尔分布和正态分布为例,比较了MRSS,RSS和SRS下刻度参数的MLE的效率.数值结果表明不管排序是否完美,MRSS下刻度参数的MLE都是比RSS和(或)SRS下刻度参数的MLE有效.

摘要：均匀设计是部分因子设计的主要方法之一,已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中.各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性,其关键的问题是寻找一个精确的偏差下界,因为它可以作为衡量设计均匀性的标准.该文给出了4水平对称U-型设计的对称化L_(2)-偏差的下界,以及2、3混水平和2、4混水平非对称U-型设计的对称化L_(2)-偏差的下界.

摘要：扩充设计作为一种新型的试验设计,近年来受到学者越来越广泛地关注.扩充设计包括初始设计与跟随设计两部分.在许多跟随设计中,在跟随阶段可以加入一些另外的2-水平或3-水平因子,因为它们在初始阶段可能被忽略但又十分重要.该文在均匀性准则下,给出了列扩充设计在混偏差下的解析表达式及相应的下界,列举了混偏差意义下的混水平列扩充近似均匀设计.

摘要：编码理论在最优设计的构造中已被广泛应用.本文通过修正Gray映射编码变换来构造用于计算机试验的四水平均匀设计,其效率通过离散偏差进行刻画;同时也给出了离散偏差的下界,这个下界可作为获得最优设计的一个基准.

摘要：针对二、三混水平饱和正交设计d,在适当的划分下d=(D:),给出设计d的广义离散偏差与子设计D()的广义字长型及均匀性模式的解析关系.同时,给出这类因子设计的广义离散偏差的下界.最后,通过例子来验证其结论.

摘要：均匀设计作为一种空间填充设计,由于具有灵活的试验次数和模型稳健性被广泛运用到各个领域.倍扩方法在构造具有优良性质的二水平部分因析设计中起着非常重要的作用.本文将二水平设计的倍扩构造方法推广至四水平,二、四混水平设计,分别提出了四水平和二、四混水平倍扩设计的新概念,在可卷厶2-偏差意义下研究了二水平,四水平,二四混水平倍扩设计与其初始设计均匀性之间的关系.同时获得这些倍扩设计的可卷L2-偏差的新下界,这些下界为评价倍扩设计的均匀性提供一个基准.最后讨论了倍扩设计的均匀性.

摘要：在构造两水平因子设计时,折叠反转是非常有用的技巧.折叠反转设计是通过改变初始设计中一个或多个因子的符号产生的跟随设计.通过把折叠反转设计中的处理加到初始设计中所得到的设计称为扩大设计.本文中,我们应用条件极值的方法得到了一般折叠反转方案下扩大设计在中心化L_2-偏差下一个新的下界,它可以作为寻找最优折叠反转方案的一个基准.

摘要：在许多工业应用中,通常分步应用跟随设计来考察输入(因子)和产出(响应)间的关系.在许多跟随设计中,在跟随阶段可以加入一些另外的两水平或三水平因子,因为它们在初始阶段可能被忽略但又十分重要.文章在均匀性准则下,提出了中心化L2-偏差意义下的混水平列扩充均匀设计,给出了列扩充设计在中心化L2-偏差下的解析表达式及相应的下界,其可作为搜索均匀设计的基准.进一步,具有一个附加区组因子的列扩充设计是均匀的当且仅当未加区组因子时的列扩充设计是均匀的.

摘要：均匀试验设计是部分因子设计的主要方法之，已被广泛地应用于工业生产、系统工程、制药及其他自然科学中．各种偏差被用来度量部分因子设计的均匀性．不管使用哪种偏差，关键的问题是寻找一个精确的偏差下界，因为它可以作为衡量设计均匀性的标准．本文应用条件极值的方法得到了三水平U-设计在对称化L2-偏差下的下界，该下界可作为寻找均匀设计的一个基准．