摘要：SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交表设计了8组反演计算实验,以评价函数MSE为考核指标。实验结果表明:对IBS SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为界面层模型,对EB SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为Pore模型。同时确定了不同物理模型对拟合MSE函数的影响大小和反演计算过程模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,两种薄膜反演计算的MSE函数相对初始MSE可下降35%和38%,表明拟合过程模型选择合理物理意义明确。文中提供了一种判断薄膜物理模型中各因素对于薄膜光学常数分析作用大小的途径,对于薄膜光学常数分析具有指导意义。

摘要：利用杨 -顾相位恢复算法设计了 1 6阶光束整形器 ,用以将 He- Ne激光基模光束整形为环形光强分布 ,并进行了实验分析 ,在实验中 ,改变输出面距输入面 (光束整形器 )的距离 L,测得输出面的衍射光强分布 ,并与理论模拟相比对。

摘要：在已设计并实验实现了氦氖 6 32 8nm高斯光束输入环输出的 16阶衍射相位元件 (DPE)基础上 ,模拟了与设计不同的输入光的波长对DPE整形效果的影响 ;利用与设计DPE波长不同的半导体激光器 (波长为 6 6 0nm)进行了实验研究。结果表明 :在DPE与输出平面的间隔 (L 值 )始终为设计值时 ,当输入光波长处于 6 30～ 6 37nm范围内 ,环上均匀性的均方误差SE不大于 1% ;当输入波长与L值满足L =L0 ×λ0 /λ′时 ,波长在 6 32 8± 37(nm)的范围内 ,环上均匀性的均方误差SE不大于 1% ,实验结果与理论模拟基本相吻合。