摘要：目的研究硅橡胶印模扫描、直接光学印模和传统的物理印模对计算机义齿辅助设计与制作全瓷冠边缘适合性的影响。方法用数控车床制备聚甲基丙烯酸甲酯材质下颌第一磨牙标准全冠预备体16个,采用硅橡胶制取精细印模,超硬石膏灌注翻制成石膏模型。分别采用扫描全冠预备体、硅橡胶印模和石膏模型获取数字化模型,制作48个氧化锆全瓷冠。采用间隙印模测量法评价3组冠的边缘间隙,应用SPSS 17.0软件对实验数据进行统计分析。结果直接扫描组、硅橡胶印模组、超硬石膏组的全瓷冠边缘间隙测量结果分别为(69.18±9.47)、(81.04±10.88)、(84.42±9.96)μm。直接扫描组与硅橡胶印模组、超硬石膏组差异有统计学意义(P0.05)。结论直接扫描、硅橡胶印模扫描、石膏模型扫描法全瓷冠的边缘适合性均在临床可接受范围之内,硅橡胶印模扫描可作为临床上获取数字模型的方式之一。

摘要：目的：分析探讨微螺钉种植体支抗技术在安氏Ⅱ类1分类错（牙合）非常规拔牙矫治中的应用效果。方法：选择安氏Ⅱ类1分类错（牙合）患者32例，年龄15～40岁，所有患者经头影测量和模型分析都是上颌需要最大支抗的病例，其中上颌拔除左右两个第一双尖牙共计17例，上颌由于第二双尖牙不同程度龋坏而拔除左右两个第二双尖牙或一侧拔除第一双尖牙而另一侧拔除第二双尖牙共计15例。合理设计种植体植入部位，在左右第一磨牙近中牙槽间隔植入微螺钉种植体。矫治前后拍摄头颅例位片，比较矫治前后第一磨牙的前移量、上前牙的内收量。结果：所有病例拔牙间隙都完全关闭，上前牙内收效果明显，1／NA角从33．7°减小到22．5°，平均减小11．2°（P〈0．01）；1-NA距从10．3mm减小到5．9mm，平均减小4．4mm（P〈0．01）；6-参考线（经翼上颌裂点与FH垂线）距离从22．8mm增加至23．7mm，平均增加0．9mm（P〉0．05），说明上颌第一磨牙前移不明显；SNA、SNB、1／NB的变化均无统计学意义。结论：微螺钉种植体可以为那些非常规拔牙患者需要最大支抗的病例提供稳定而可靠的支抗。

摘要：目的比较三种不同设计的钴铬钼合金卡环应用于前磨牙修复美观固位中的效果。方法选择我院收治的前磨牙修复美观固位治疗患者120例,将其随机分为RPI组(RPI卡环)、RPA组(RPA卡环)和RPT组(RPA卡环),各40例。比较三组患者修复治疗后1、6个月的美观性、满意度、基牙磨损情况及牙齿松动度。结果修复治疗后1、6个月,RPI组与RPA组的美观性、满意度无显著差异(P>0.05);修复治疗后1、6个月,RPI组、RPA组的美观性、满意度均优于RPT组(P0.05);修复治疗后1、6个月,RPI组与RPA组的基牙轻度磨损率均高于RPT组(P0.05)。结论RPI和RPA卡环的美观性更高,且患者满意度更高,可根据患者的实际情况选择。