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基于Verilog语言的数字交叉连接矩阵设计
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《计算机工程与应用》2007年 第4期43卷 82-84页
作者:华熹曦 赵雷 许新新 王琳 李惠军山东大学孟堯微电子研发中心济南250100 
通过改进传统数字交叉连接矩阵的单元结构,详细介绍了基于Verilog语言的SDXC矩阵设计的一种新方法。此矩阵可实现2条STM-1输入信号中任意等级支路之间的无阻塞时隙交换。文章着重阐述了交叉连接矩阵实时、自适应交换功能的原理及实现方...
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小尺寸双极超β晶体管的TCAD设计与优化
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《半导体技术》2005年 第11期30卷 57-59页
作者:许新新 郭琦 霍林 李惠军山东大学孟堯微电子研发中心济南250100 
基于TCAD一体化系列工具,实现了小尺寸双极性超β晶圆管芯的工艺级及器件物理特性级的 设计与优化。提出了基区宽度接近90nm层次下的小尺寸双极性超β晶体管的工艺实施方案。经TSUPREM -Ⅳ和MEDICI一体化仿真、参数提取及特性的验证表明...
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纳米级BiCMOS双极架构的可制造性设计
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《微纳电子技术》2007年 第1期44卷 11-14,42页
作者:刘岩 侯志刚 李惠军山东大学孟尧微电子研发中心济南250100 
基于对小尺寸双极性器件特性的理论分析,对合理实现BiCMOS的架构模式进行了深入研究,完成了TSUPREM-Ⅳ与MEDICI接口的TCAD可制造性设计流程,实现了BiCMOS环境下集成化小尺寸器件管芯制程的全流程虚拟制造。器件基区宽度小于100nm,器件...
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纳米级工艺制程仿真SenTaurus Process的应用
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《微纳电子技术》2007年 第6期44卷 295-298,311页
作者:于英霞 李惠军 侯志刚 张宪敏山东大学孟尧微电子研发中心济南250100 
基于Synopsys Inc.最新推出的新一代nm级IC制程工艺设计工具--SenTaurus Process,实现了CMOS架构的nm级NMOS制程的工艺级可制造性设计。仿真结果体现了SenTaurus Process的强大功能和使用SenTaurus Process进行工艺级可制造性设计的必...
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集成电路可制造性设计中器件参数的提取
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《微纳电子技术》2005年 第12期42卷 578-582页
作者:霍林 郭琦 李惠军山东大学孟尧微电子研发中心济南250100 
分别采用流体力学模型和漂移扩散模型对不同沟道长度的NMOSFET进行衬底电流的提取,并以NMOSFET沟道长度和LDD注入峰值综合对器件特性的影响为研究内容,介绍了集成电路可制造性设计中器件参数的优化与提取。
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超大规模集成电路的可制造性设计
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《微纳电子技术》2005年 第9期42卷 435-439页
作者:郭琦 李惠军山东大学孟堯微电子研发中心济南250100 
以Synopsys推出的TCAD软件TSUPREM-Ⅳ和Medici为蓝本,结合100nm栅长PMOSFET的可制造性联机仿真与优化实例,阐述了超大规模集成电路DFM阶段所进行的工艺级、器件物理特性级优化及工艺参数的提取。
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新一代nm级集成工艺仿真工具——SenTaurus Process
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《微纳电子技术》2007年 第5期44卷 231-234,245页
作者:于英霞 李惠军 侯志刚 张宪敏山东大学孟尧微电子研发中心济南250100 
介绍了新思科技(Synopsys Inc.)最新推出的新一代nm级IC制程工艺设计工具——Sen-Taurus Process的基本功能及其仿真领域,详细阐述了SenTaurus Process功能的拓展。对SenTau-rus Process增加的模型库浏览器(PDB)、一维模拟结果输出(Insp...
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