摘要：介绍了一种新的改进化学气相沉积法(MCVD)+气相轴向沉积法(VAD)预制棒制备工艺,该工艺按照归一化波导结构进行工艺设计和参数控制,即采用MCVD法制备归一化结构参数轴向一致的芯棒,然后采用VAD法轴向沉积相应的外包层,从而得到波导结构轴向均匀一致的预制棒。采用新工艺实验研究了非零色散位移光纤的制造过程,成功制造了波导结构均匀的光纤预制棒,有效地利用预制棒的锥度增加有效长度,光纤的生产效率提高约15%,节省了成本。详细分析了该工艺方法的三个关键环节:芯棒归一化结构制备,芯棒收缩比的设定,VAD松散体沉积。研究结果对非零色散位移光纤的生产具有实际的指导意义。

摘要：采用一种具有中心凹陷的三角芯+环型的折射率剖面设计,利用外部气相沉积(OVD)工艺制备了新型非零色散位移G.655.D光纤。实验结果表明:在1550 nm和1625 nm波长处,光纤的衰减值分别为0.195 dB/km和0.203 dB/km,截止波长为1200 nm;将光纤绕在半径为25 mm的圆柱体上100圈,此时其在1550 nm和1625 nm波长处的宏弯损耗值分别低于0.027 dB和0.045 dB;该光纤在1530~1625 nm波段的色散为1.6~9.5 ps/(nm·km),尤其是在1550 nm波长处,其有效面积达到72μm^(2),比常规G.653光纤大1.4倍。通过这种设计和方法制备的光纤可以实现零色散波长的平移,获得良好的纵向色散均匀性、较低的弯曲损耗以及较大的有效面积,适用于1530~1625 nm波段的密集波分复用应用,在长距离光纤通信中对四波混频(FWM)、交叉相位调制(XPM)等非线性效应具有较好的抑制作用,可以减少色散管理成本,具有非常重要的应用价值。