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复合电沉积的Taguchi设计
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无锡轻工大学学报(食品与生物技术)》1998年 第2期17卷 64-66页
作者:张景尧 刘松琴 郑秋容无锡轻工大学化学工程系 
将Taguchi试验方法用于Ni-Mo复合电沉积过程,从而筛选出最佳工艺条件,在此最佳工艺条件下所得镀层的析氢过电位η100仅为167.3mV.
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