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平面曝光型光造型装置的研究: 收藏
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引用; 《西安理工大学学报》2000年第1期16卷 65-68页; 作者：于殿泓山本昌彦郭俊杰西安理工大学机械与精密仪器工程学院陕西西安710048 日本国近畿大学理工学部; 微型光造型法的一个很大的缺点是构造物的制造时间长。为了解决这一问题 ,在报告微型光固化立体成型法现状的基础上 ,提出了一种新颖的平面曝光型光造型方案 ,设计并制作了实验装置 ,利用热敏色带制作微型平面掩膜 ,进行了平面固化成型...; 微型光造型法的一个很大的缺点是构造物的制造时间长。为了解决这一问题 ,在报告微型光固化立体成型法现状的基础上 ,提出了一种新颖的平面曝光型光造型方案 ,设计并制作了实验装置 ,利用热敏色带制作微型平面掩膜 ,进行了平面固化成型实验。实验结果表明 ,利用平面曝光型光造型方案进行成型 ,单层硬化时间可缩短至 1 2 0; 来源：详细信息评论

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