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检索条件"机构=杭州半导体厂"
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大电流光激可控硅的设计制造及应用
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半导体技术》1994年 第1期10卷 16-21页
作者:阮震翔杭州半导体厂 
本文给出了大电流光激可控硅的设计考虑,特别对光激可控硅的正、反向阻断电压和α_(npn)、α_(pnp)的关系,以及光触发开启灵敏度和dV/dt、dI/dt耐量的解决办法作了较为详细的论述。同时还介绍了3安培光激可控...
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电老化和老化台的设计要点
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半导体技术》1998年 第1期23卷 58-60页
作者:施式凡杭州半导体厂 
介绍电老化的作用,大功率老化台线路设计和分析比较,老化台的冷却系统和各种保护系统,以及现用老化台中一些易被忽视的问题。
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状态分配规则及多余态分配技术
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杭州电子工业学院学报》1995年 第2期15卷 42-50页
作者:蒋保纬 韩惠雯杭州大学 杭州半导体厂 
本文全面分析了时序电路设计中的4个状态分配规则,并进一步提出了多余态的分配技术。设计实例表明,有关的规则及多余态分配技术均是有效的。
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