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硅衍射微透镜阵列的制作技术研究
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《半导体光电2005年 第B3期26卷 106-110,114页
作者:赖建军 赵悦 柯才军 周宏 易新建 翁雪涛 熊平毕中科技大学光电子工程系湖北武汉430074 重庆光电技术研究所重庆400060 
介绍了二元光学方法制作多台阶衍射微透镜的设计和工艺过程;分析了台阶侧壁倾斜对衍射效率的影响;提出了一种基于软刻蚀技术的复制和集成新工艺。实际制作了8台阶硅衍射微透镜阵列,利用新工艺复制了硅衍射透镜阵列。
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