摘要：主要探讨了超纯水除硼工艺中,组合式的二级RO反渗透膜装置+EDI连续电除盐装置+后置SA阴床装置+抛光混床装置的除硼工艺,对硼的实际去除效果及运行数据分析。该组合式工艺可稳定满足B出水指标50PPT以下,满足现行半导体超纯水系统对终端B指标超高要求。通过对该组合式工艺运行效果分析,可为后续的超纯水除硼项目提供设计参考。

摘要：国内首座12寸半导体工厂废水近零排放系统,由超纯水系统、回收水系统、废水系统、再生水系统组成,在确保整体水系统零排放运行情况下,保证超纯水水质的稳定成为了重要的课题.该工程运行效果稳定,处理工艺及设计理念对同类工程具有一定的参考意义.

摘要：文章主要介绍了"吹脱法+酸洗吸收"工艺在山东某芯片生产企业氨氮废水处理中的应用.设计处理水量为35m^(3)/h,处理后的出水氨氮浓度稳定小于35mg/L,低于GB39731-2020《电子工业水污染物排放标准》中间接排放标准,且运行效果稳定,处理工艺及关键设计参数对同类型工程具有一定的参考价值.

摘要：针对某半导体行业超纯水制备系统水量、水质要求,设计采用“前处理系统→MAKE UP系统→抛光系统”工艺路线,详细介绍了工艺流程、设备配置及材料部分造价情况,可供类似项目参考。

摘要：针对某生物医药企业生产废水的水质特点,采用"一级蒸发+铁碳微电解芬顿联合氧化技术+二级蒸发"处理工艺。废水经处理后出水水质远低于排放标准,且运行效果稳定,投资及运行费用较低,处理工艺及设计参数对同类工程具有一定的参考意义。

摘要：文章主要分析介绍了苏州某制药工程胰岛素灌装项目生产线高温含磷废水处理系统的工程设计与运行情况。含磷废水设计处理水量未22.8m^3/h,处理工艺采用循环冷却水换热降温+化学除磷工艺(铝盐除磷)+石英砂深度过滤工艺,使出水磷指标<排放标准1.0mg/L。系统稳定运行至今,自动化程度高,操作运行简便,吨水成本3.01元,较为经济合理。

摘要：针对某中型医院废水量、水质特点,采用生物接触氧化法及相应工艺对废水进行处理,处理后使出水的指标为:COD<60mg/L,BOD<10mg/L,SS<20mg/L,NH_3-N<5mg/L,达到了回用水标准。且设计方案的每吨水投资为0.1万元/m^3,运行成本约为1.27元/m^3,具有经济可行性。

摘要：文章介绍了采用两级混凝沉淀工艺处理某电子芯片厂含氟废水的工程设计与运行情况,设计处理水量为1180m^3/d,设计出水指标执行《合肥经济技术开发区污水处理厂接管标准》和《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准。目前工程运行状况良好,出水各项指标均达到设计标准,且运行费用仅为2.32元/m^3,较为经济合理。

摘要：文章介绍了采用气浮/芬顿/UASB/接触氧化/氧化工艺处理胶印油墨废水的工程设计与运行情况,设计处理能力200m3/d,设计出水指标执行《油墨工业水污染物排放标准》(GB 25463-2010)中规定的行业间接标准。工程连续运行期间,水质检测数据表明各项指标均达到设计标准,且运行费用仅为7.56元/m3,较为经济合理。

摘要：文章针对某硅片企业生产废水的种类与水质特点,采用分质分类处理的设计原则:酸碱废水采用"两段p H中和工艺",研磨废水采用"加药混凝+水解酸化+接触氧化工艺",含氟废水采用"p H调节+混凝沉淀工艺"。废水经处理后,出水水质远远低于《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准,且运行效果稳定,投资及运行费用较低,处理工艺及设计参数对同类工程具有一定的参考意义。