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电弧离子镀技术中脉冲偏压对TiN薄膜的影响
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《河北师范大学学报（自然科学版）》2006年 第5期30卷 555-558页
作者：赵喜梅 王光平邢台学院物理系河北邢台054001 河北省教育考试院信息办公室河北石家庄050091 
用正交设计实验研究了电弧离子镀技术中采用脉冲偏压以后各种参数对沉积TiN薄膜性能的影响.研究表明,与直流偏压相比,直流叠加脉冲偏压能更好地细化颗粒,降低薄膜的表面粗糙度,提高沉积速率.对实验结果的方差分析显示:气氛和频率是降低...
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