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检索条件"机构=浙江大学材化学院半导体所"
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2000年国外工业气体市场
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《低温与特气》2001年 第6期19卷 1-5页
作者:梁国仑 余京松光明化工研究设计院辽宁大连116031 浙江大学材化学院半导体所浙江杭州310027 
综述了 2 0 0 0年全球工业气体市场 ,着重论述了北美。
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化工标准与标准化概述
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《低温与特气》2004年 第4期22卷 1-4页
作者:林刚 沃银花光明化工研究设计院辽宁大连116031 浙江大学材化学院半导体所浙江杭州310027 
就我国标准化的历史与现状加以综述。对化工标准的分类、有效范围、执行方式以及化工标准的特点作重点论述。对我国现行化工标准的不足及发展趋势也加以阐述。对国际标准化机构的相关工作作了简要介绍。
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SiH_4的化学性质
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《低温与特气》2005年 第4期23卷 23-25页
作者:沃银花 王少楠 余京松浙江大学材化学院半导体所浙江杭州310027 西南化工研究设计院四川成都610225 
SiH4是易燃、易爆的危险性气体。因为它是强还原性物质,与氧化性物质、碱或许多重金属盐类溶液接触,会显示出很强的活泼性。详细介绍了SiH4的基本性质。
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SiH_4、N_2二元混合气在低O_2态下的潜在危险性
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《低温与特气》2004年 第1期22卷 32-34页
作者:沃银花 王少楠 余京松浙江大学材化学院半导体所浙江杭州310027 西南化工研究设计院四川成都610225 
通常硅烷与氧很难共存,人们也决不会贸然在硅烷气体中作掺氧试验。一次偶然的机会,我们做配制SiH4与N2二元混合气的实验,事后发现用N2中含氧量为4 2%(体积分数)。由此我们知道这种处于亚稳状态的硅烷混合气其潜在的危险非常之大。
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