摘要：采用全合成预制棒制造法(VAD+OVD)和改进的G.652 .D光纤拉制法制造光纤.研究了工艺中光纤芯径的大小、第一包层的厚度、芯包折射率差、芯包比等参量与光纤弯曲性能的关系,并据此制作了几种超细低水峰抗弯损光纤.该光纤的裸光纤直径约80μm,涂覆后成品光纤直径约140μm,当弯曲半径不小于7 .5 mm时,能够在1 260 ～1 625 nm整个波段内满足DWMD的传输要求.

摘要：介绍了一种新颖的非零色散位移光纤结构设计方法及其MCVD+OVD制造工艺,所制备的光纤有效面积达到71μm2以上。采用关键结构区域精确微扰方法,改进了光纤的色散特性,1550nm处色散斜率由0.0715ps/(***),分别减小至0.0605ps/(***),0.0466ps/(***),零色散波长由1500nm附近移至1450nm以下。测量表明,所得光纤具有优越的光学传输特性、抗弯曲性能和熔接性能,适用于C+L和S+C+L工作波长的大容量高速率长距离密集波分复用系统。光纤关键结构区域精确微扰是改进光纤性能的一种有效方法,该方法不限于MCVD工艺和非零色散位移光纤,对新型光纤的设计和生产具有积极的指导意义。

摘要：偏振模色散(PMD)在40Gb/s或更高速率的光纤通信系统中已成为限制系统性能的主要因素。为使PMD补偿经济、控制方便,具有一定的工程实用价值,提出了一套采用两级固定时延补偿结构的PMD部分补偿方案,设计并制作了PMD补偿器,在实际传输线路中进行了测试。测试结果与光通信系统设计软件Optiwave Optisystem模拟补偿效果进行了对比,优化了补偿器的各项参数。在对实际敷设的四组长约60km的光纤链路的补偿试验中所得结果与计算结果符合较好,实现了15～20%的补偿量。

摘要：双包层掺镱光纤作为光纤激光器的增益介质受到广泛关注。简要介绍了光纤中Yb^(3+)的光谱性能,用于高功率光纤激光器的光纤结构设计以及双包层掺杂光纤的制备方法。讨论了掺镱光纤的光暗化效应的潜在机理及抑制方法。

摘要：设计和制造了一种低损耗大有效面积光纤,其1550nm的有效面积和衰减系数分别为130μm^2和0.182dB/km,1625nm宏弯损耗(Φ60mm×100圈)为0.013dB。比较了大有效面积光纤与常规G.652光纤传输性能,链路FOM贡献为2.23dB。

摘要：目前大多数光纤预制棒是通过两步法工艺完成的.本文以原始芯棒的包芯比(t/a)和相对折射率差(△)参数为基础,研究了原始芯棒的尺寸控制和设计、延伸.包层沉积.并最终拉制出符合标准要求的光纤。原文语音欠通顺,改的结果请确认。