摘要：市场经济下税制设计的模式是实现资源配置优化符合国际税收惯例的公平税收体制，主要体现为效率优先，相对公平和收入适度。……

摘要：磁控溅射已发展为工业镀膜生产中最主要的技术之一。对在镀膜批量生产中普遍存在的靶材利用率、溅射速率和沉积速率低以及溅射过程不稳定等突出问题 ,固然可用优化电源设计和调整工艺参数等加以改善 ,但根本的问题在于整个系统 ,特别是靶的优化设计。本文简要评述了已有靶的典型设计及其特点 ;对靶分析和设计的通行方法 ,包括电磁场有限元、等离子体粒子模型及流体模型、以及设计过程中其它一些需要注意的问题作了讨论。鉴于国内目前在靶的分析设计方面与国际先进水平之间还存在着比较大的差距 ,希望能够引起有关方面的重视。

摘要：多数 ITO透明导电玻璃生产线在实现 Si O2 膜与 ITO膜在线联镀时 ,应用 Si O2 靶射频溅射沉积 Si O2膜工艺和 ITO靶直流溅射沉积 ITO膜工艺 ,如果 Si O2 膜应用硅靶反应磁控溅射工艺 ,存在这种工艺是否可以与 ITO靶直流溅射沉积 ITO膜工艺在线联用以及如何实现联用的问题。作者对现有的生产线进行了改造设计、加工 ,做了大量实验、质谱分析和多项测试研究 ,成功地实现反应溅射 Si O2 膜与 ITO膜在线联镀 ,做到Si O2 镀膜室的工作状态的变化基本上不影响