限定检索结果

检索条件"机构=电子工业部第48研究所"
8 条 记 录,以下是1-10 订阅
视图:
排序:
钟罩式高温烧结炉
收藏 引用
《微细加工技术》1998年 第1期 55-62页
作者:魏唯电子工业部第48研究所 
研制出一台满足集成电路微组装工艺需的高温烧结炉,介绍该烧结炉的结构组成和设计原理。
来源:详细信息评论
21米氮气氛保护全自动推板窑的研制
收藏 引用
《微细加工技术》1994年 第3期 52-59页
作者:曹勇长沙电子工业部第48研究所 
本文介绍了用于连续烧结锰锌铁氧体元件的大型专用设备的研制情况,论述了其总体技术方案及设计思想,主要组成分的技术特性及设备实际运行结果和分析。
来源:详细信息评论
透明电热炉的热工设计
收藏 引用
《微细加工技术》1993年 第2期 52-59页
作者:袁章其电子工业部第48研究所长沙410111 
本文简述了透明电热炉的原理、基本特性及几种主要材料的选择,并引出了一些基本热工设计计算方法。最后,简介了研制结果和使用情况。
来源:详细信息评论
可编程控制器在氮窑液压循环控制系统中的应用
收藏 引用
《微细加工技术》1994年 第3期 60-66页
作者:王振球长沙电子工业部第48研究所 
本文介绍了一种以C60P可编程控制器为核心的控制系统。该系统用于氮窑的液压循环控制。本文描述了控制系统的组成、控制原理、控制方法以及程序设计思想。
来源:详细信息评论
氢氧合成氧化的件设计
收藏 引用
《微细加工技术》1999年 第2期 35-39页
作者:袁章其电子工业部第48研究所 
介绍了氢氧合成氧化工艺的优越性,基本机理,以及如何根据工艺要求、硅片的几何尺寸。
来源:详细信息评论
双坩埚大功率磁偏转电子束蒸发枪的研制
收藏 引用
《微细加工技术》1994年 第2期 77-80页
作者:缪鹏 严亚平长沙电子工业部第48研究所 
由于硅材料的熔点较高(1420℃),难以用传统的电阻加热方式来蒸发硅材料,为产生高纯硅分子束流,特设计出这种能适应于超高真空环境的大功率电子枪,该枪对其它高熔点材料(钨、钼、钽等)同样具有良好的蒸发性能。本文对这种电...
来源:详细信息评论
700keV高能离子注入机的靶室电源
收藏 引用
《微细加工技术》1989年 第1期 27-29页
作者:居晶慧机械电子工业部第48研究所 
一、前言700keV高能离子注入机,其靶室设计采用了旋转靶结构。如图1示,在旋转靶盘上均布着8个靶位,分别称为1号靶位、2号靶位、……依此类推至8号靶位。其中1~7号靶用来对靶片注入,8号靶上装有铜网,以便在调束过程中,通过观察窗和微...
来源:详细信息评论
聚焦离子束用静电透镜特性的计算
收藏 引用
《微细加工技术》1992年 第4期 1-5页
作者:唐景庭机械电子工业部第48研究所长沙410111 
聚焦离子束技术是一项有前途的微细加工技术,聚焦光学系统的设计是该技术的关键之一。本文介绍用于聚焦离子光学系统的静电透镜特性计算程序,该程序可计算任何旋转轴对称静电透镜的特性,可用于寻求球差和色差系数较小的静电透镜的电极...
来源:详细信息评论
聚类工具 回到顶部