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应用于微通道板导电层的TiO_(2)∶Al_(2)O_(3)纳米复合薄膜的制备研究
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《光子学报》2023年 第6期52卷 128-136页
作者:李继超 朱香平 李相鑫 胡景鹏 李存钰 赵卫中国科学院西安光学精密研究所瞬态光学与光子技术国家重点实验室西安710119 中国科学院大学北京100049 西安中科原子精密制造科技有限公司西安710110 
基于原子层沉积技术提出了一种TiO_(2)∶Al_(2)O_(3)纳米复合薄膜作为微通道板导电层材料。根据微通道板的规格参数以及体电阻要求,推导出微通道板导电层薄膜的方块电阻范围为1.73×10^(13)~5.20×10^(13)Ω/□;研究了TiO_(2)...
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