摘要：为解决用光助电化学刻蚀法制作大面积高深宽比硅深槽过程中出现均匀性差的问题,在分析了传统光助电化学刻蚀装置中存在的不足的基础上,设计并制作了一套新型大面积光助电化学刻蚀装置.该装置通过特殊设计的花洒式溶液循环机构和水冷隔热系统,解决了大面积硅片在长时间深刻蚀过程中出现的溶液升温和气泡堆积的问题.借助这套装置能够实现127 mm(5 inch)及以上大面积硅片的均匀深刻蚀.同时,通过采用以0.01 A/min的速率逐步增加刻蚀电流的方法,来补偿侧向腐蚀对槽底电流密度的影响,保证了整个刻蚀过程中硅深槽形貌的一致性.最终在整个127 mm硅片上制作出了各处均匀一致的硅深槽,深度达60μm、深宽比在20以上.

摘要：采用蒙特卡罗方法模拟实现箱装引信跌落安全性检验的虚拟试验,代替危险引信的实验室跌落试验。以A型包装引信为计算实例,测得3m高度以最容易解除保险的姿态跌落到水泥地面上的冲击加速度分布规律,并对储存30年后的保险弹簧弹性系数的分布规律进行了测试,将所得数据和部分设计参数代入惯性元件动力学模型,1000次虚拟试验结果与弹药事故资料统计值吻合。

摘要：对JXTA的软件架构进行了分析,从JXTA管道通信的基本原理入手,设计并实现了一个文件共享与传输的实例,深入探讨了管道、通告、消息监听以及事件响应在对等点发现的相互作用及协同工作过程,同时给出了实现该实例的几个关键技术点。