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适用于沉积工艺的真空技术
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《电子工业专用设备》2004年 第4期33卷 15-17页
作者：KirelTang WANGYing-pei MikeCzerniakBOCEdwardsLoyangIndustrialEstateSingapore BOCEdwardsPudongShanghai200131China BOCEdwardsWestSussexEnglandRH102LW 
半导体生产中的薄膜沉积工艺通常对真空泵的要求很严格。在该工艺中高故障率和停机现象较为普遍。iH真空泵是特别为应付恶劣的薄膜工艺环境所设计。阐述了iH系列干泵在LPCVD氮化硅工艺应用中的成功表现。
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